Charged particle beam exposure system and charged particle beam exposure method,申请号EP19920104354-传众专利搜索

发明名称	Charged particle beam exposure system and charged particle beam exposure method
摘要
申请公布号	EP0508151(B1)	申请公布日期	1998.08.12
申请号	EP19920104354	申请日期	1992.03.13
申请人	FUJITSU LIMITED	发明人	YASUDA, HIROSHI;TAKAHASHI, YASUSHI;SAKAMOTO, KIICHI;YAMADA, AKIO;OSE, YOSHIHISA;KAI, JUNICHI;FUEKI, SHUNSUKE;KAWASHIMA, KENICHI
分类号	H01J37/09;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/09	主分类号	H01J37/09
代理机构		代理人
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