| 摘要 |
본 발명은 레지스트 패턴의 제거 공정에 있어서의 컬러 필터의 박리가 억제된 컬러 필터의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은 지지체 상에 1차 입자 지름이 1㎚~100㎚인 금속 산화물 입자를 함유하는 경화막을 형성하는 경화막 형성 공정과, 경화막 상에 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 포토레지스트층 형성 공정과, 포토레지스트층을 패턴 모양으로 제거함으로써 착색층 상에 레지스트 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정과, 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 해서 에칭 가스를 사용한 드라이 에칭법에 의해 착색층을 에칭하는 에칭 공정과, 에칭 공정 후에 잔존하는 레지스트 패턴을 제거하는 레지스트 패턴 제거 공정을 포함한다. |
