发明名称 SURFACE STRUCTURE FOR INTRA-OSSEOUS IMPLANT
摘要 <p>Das zum Einsetzen in einen Knochen bestimmte enossale Implantat ist auf der Oberfläche mit einer spezifischen Rauhigkeit versehen, wobei die Implantatoberfläche Vertiefungen (1) mit einer Tiefe (c) von etwa 20 νm bis etwa 60 νm aufweist. Am Grund der Vertiefungen (1) liegen Bodenflächen (2) und zwischen den Vertiefungen (1) Plateauflächen (3). Bodenflächen (2) und Plateauflächen (3) besitzen eine Horizontalausdehnung (a, b) von etwa 10 νm bis etwa 20 νm. Diese Vertiefungen (1) sind idealerweise möglichst glatt, d.h. sie besitzen keine Oberflächenrauhigkeit unterhalb der zellulären Dimension. Von den Bodenflächen (2) erstrecken sich schräg aufsteigende Seitenflächen (4) hin zu den Plateauflächen (3), wobei der zwischen der Horizontalen und den Seitenflächen (4) eingeschlossene Neigungswinkel (α) maximal etwa 30° beträgt. Unterhalb der oberen Halspartie besitzt das Implantat ein selbstschneidendes Gewinde und die Halspartie des Implantats ist mit einer porzellanähnlichen Beschichtung versehen. Die Oberflächenenergie und -spannung des Implantats werden möglichst gering gehalten. Als für die Implantate vorzugsweise verwendetes Material kommen Titan, Titanbasislegierungen oder porzellanähnliche Substanzen in Betracht. Die Oberflächenstruktur ergibt ein Implantat, das sich bei einer soliden unmitttelbar postoperativen Primärstabilität auch durch eine beschleunigte und erhöhte Belastbarkeit infolge intensiverer Osseointegration auszeichnet.</p>
申请公布号 WO1999013700(A2) 申请公布日期 1999.03.25
申请号 CH1999000010 申请日期 1999.01.12
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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