发明名称 低摩擦镀层
摘要 公开了一种式为M<SUB>X</SUB>Si<SUB>V</SUB>R<SUB>Y</SUB>S<SUB>Z</SUB>F<SUB>W</SUB>的金属硫化物镀层组合物,其中:M是选自于Mo、Ti、W、Nb、Ta、Zr和Hf中之一种或多种金属;Si是硅;R是选自于C、B、Al、V、Cr、Fe、Co、Ni、Sm、Au、Cu、Zn、Sn、Pb、N、H和O中之一种或多种元素;S是硫;F是氟;X为0.2—1.5;V为0.02—3;Y为0—4;Z为0.2—6;以及W为0.01—6,并且其中X、Y、Z、V和W均以原子比给出,所述组合物具有良好的非粘附性、低的亲水性和高的稳定性。
申请公布号 CN1240486A 申请公布日期 2000.01.05
申请号 CN97180588.1 申请日期 1997.12.10
申请人 金科有限公司 发明人 V·比里多-科萨勒茨
分类号 C23C14/06;C23C16/30 主分类号 C23C14/06
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 段承恩
主权项 1.一种金属硫化物镀层组合物,其特征在于所述组合物还含有硅和氟。
地址 英国利物浦