发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Metalloxidschicht bzw. einer strukturierten Metalloxidschicht |
摘要 |
The invention relates to a method of producing a metal oxide film. The inventive method comprises the following steps: a) providing a barrier film, b) applying a metal film onto the barrier film, and c) thermally oxidizing the metal film in an oxygen atmosphere, thereby producing a metal oxide film (3').
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申请公布号 |
DE19856084(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.08 |
申请号 |
DE19981056084 |
申请日期 |
1998.12.04 |
申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
POMPL, THOMAS;WURZER, HELMUT;REBITZER, WOLFGANG;GAERTNER, THOMAS;GEHRING, OLIVER;KRAHL, KERSTIN;WEGE, STEPHAN |
分类号 |
C23C8/02;C23C14/58;C23C28/00;H01L21/28;H01L21/311;(IPC1-7):C23C14/58;C23C14/14;C23F1/02;C23F17/00;C23C8/10 |
主分类号 |
C23C8/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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