发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Metalloxidschicht bzw. einer strukturierten Metalloxidschicht
摘要 The invention relates to a method of producing a metal oxide film. The inventive method comprises the following steps: a) providing a barrier film, b) applying a metal film onto the barrier film, and c) thermally oxidizing the metal film in an oxygen atmosphere, thereby producing a metal oxide film (3').
申请公布号 DE19856084(A1) 申请公布日期 2000.06.08
申请号 DE19981056084 申请日期 1998.12.04
申请人 SIEMENS AG 发明人 POMPL, THOMAS;WURZER, HELMUT;REBITZER, WOLFGANG;GAERTNER, THOMAS;GEHRING, OLIVER;KRAHL, KERSTIN;WEGE, STEPHAN
分类号 C23C8/02;C23C14/58;C23C28/00;H01L21/28;H01L21/311;(IPC1-7):C23C14/58;C23C14/14;C23F1/02;C23F17/00;C23C8/10 主分类号 C23C8/02
代理机构 代理人
主权项
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