发明名称 EMULSION FOTORRESISTENTE IONOMERICA, ESTABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y USO DE LA MISMA.
摘要 SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.
申请公布号 ES2145907(T3) 申请公布日期 2000.07.16
申请号 ES19950911101T 申请日期 1995.02.24
申请人 MACDERMID INCORPORATED 发明人 HALLOCK, JOHN, SCOTT;BECKNELL, ALLAN, FREDERICK;EBNER, CYNTHIA, LOUISE;HART, DANIEL, JOSEPH
分类号 C09D4/00;C09D4/02;C09D4/06;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/033;H05K3/00;H05K3/06;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/031;G03F7/032;B32B15/08;B32B17/10;B32B27/08 主分类号 C09D4/00
代理机构 代理人
主权项
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