发明名称 |
EMULSION FOTORRESISTENTE IONOMERICA, ESTABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y USO DE LA MISMA. |
摘要 |
SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.
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申请公布号 |
ES2145907(T3) |
申请公布日期 |
2000.07.16 |
申请号 |
ES19950911101T |
申请日期 |
1995.02.24 |
申请人 |
MACDERMID INCORPORATED |
发明人 |
HALLOCK, JOHN, SCOTT;BECKNELL, ALLAN, FREDERICK;EBNER, CYNTHIA, LOUISE;HART, DANIEL, JOSEPH |
分类号 |
C09D4/00;C09D4/02;C09D4/06;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/033;H05K3/00;H05K3/06;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/031;G03F7/032;B32B15/08;B32B17/10;B32B27/08 |
主分类号 |
C09D4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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