| 主权项 |
1.一种过滤装置包含有:过滤机构被排列以由流经过滤机构之流体过滤粒子;且折射机构被定位于过滤机构下游侧边,且被设计以反射经过过滤机构之部分流体,使其返回朝向过滤机构,因此在使用时,经过过滤机构之压力降被减低,如此降低过滤机构上及/或过滤机构内粒子之附着。2.如申请专利范围第1项定义之过滤装置,其中折射机构包含有具有数个通常与流体流动方向平行之平行凹槽之折射构件。3.如申请专利范围第2项定义之过滤装置,其中数个凹槽由一系列延伸通过折射框架构件之平行折射肋所定义。4.如申请专利范围第3项定义之过滤装置,其中每一个折射肋包含有通常为C型之延长构件,其具有分别面对上游及下游之相对凹及凸表面。5.如申请专利范围第3项定义之过滤装置,其中每一个折射肋包含有延长构件,其具有通常为C型且由其下游表面延伸出之相对薄轮缘之凹槽。6.如申请专利范围第2项至第5项之任一项定义之过滤装置,其中折射构件亦包含有一反射构件,其被置于折射构件之上游侧边,且被排列以明显使所有经过过滤机构之流体被导向折射构件上。7.如申请专利范围第6项定义之过滤装置,其中反射构件包含有一系列延伸通过反射框架之平行反射肋,反射肋被排列以使每一个肋明显与位于折射肋之相邻肋间之相对间隙对齐。8.如申请专利范围第7项定义之过滤装置,其中折射机构进一步包含有夹于反射及折射构件之间隔构件,如此提供一位于上述构件间之流体流动路径。9.如申请专利范围第8项定义之过滤装置,其中过滤机构系为一可被用于传统过滤装置之过滤薄板,典型而言,过滤薄板系为网状构造。10.如申请专利范围第9项定义之过滤装置,进一步包含有维持构件外形之过滤薄板,如此可将过滤薄板夹于折射构件及维持构件薄板间。11.一种折射构件,其被采用定位于过滤机构之下游侧边,其被排列以由流体过滤粒子,上述折射构件被设计以反射经过过滤机构之部分流体,使其返回朝向过滤机构,因此在使用时,经过过滤机构之压力降被减低,如此降低过滤机构上及/或过滤机构内粒子之附着。12.一种由流体过滤粒子之方法,上述方法包含之步骤有:提供一包含有过滤机构之过滤装置,此过滤机构被排列以过滤粒子,且折射机构位于过滤机构之下游侧边;且经过过滤机构之流体朝向过滤机构,其中部分上述流体被返回朝向过滤机构,因此减低经过过滤机构之压力降,如此降低过滤机构上及/或过滤机构内粒子之附着。13.一种清洁附着粒子之过滤机之方法,上述方法包含有定位折射机构位于过滤机构下游侧边之步骤,如此经过过滤机构之部分流体可被反射返回朝向过滤机构,因此减低经过过滤机构之压力降,如此可降低过滤机构上及/或过滤机构内过大粒子之附着。图式简单说明:第一图系过滤装置之前视图及截面视图;第二图系为第一图之过滤装置之后视图截面视图;第三图系为过滤装置之爆炸截面视图;第四图系为由第一图至第三图取出之保持构件之过滤薄板之平面,截面及详细视图;第五图系为由过滤装置取出之反射构件之平面,截面及详细视图;第六图系为由过滤装置取出之间隔构件之平面,截面及详细视图;第七图系为由过滤装置取出之折射构件之平面,截面及详细视图;第八图系为折射构件之后平面及截面视图;第九图系为安装于基座内之过滤装置之详细截面视图;第十图系为另一种过滤装置之爆炸截面视图;第十一图系为由第十图之另一种过滤装置取出之折射构件之平面及截面视图;第十二图系为由另一种过滤装置取出之间隔构件之平面及截面视图;第十三图系为由另一种过滤装置取出之折射构件之平面及截面视图;第十四图系为适合于安装过滤装置之基座之一形式之侧边水平视图;第十五图系为适合于安装过滤装置之另一种基座之侧边水平视图;第十六图系为第十四图描述之基座之截面视图;第十七图系为过滤基座之上半部之平面视图;第十八图系为基座之下半部之平面视图;第十九图系为由第十四图之基座取出之夹紧环之详细视图;第二十图系为根据本发明之一实施例展现“静态变化角排斥"(STAR)之流体之放大视图;及第二十一图系为STAR之放大视图,其系为折射机构之几何形状及外形所影响。 |
