发明名称 受控制变数的反馈控制方法
摘要 l.受控制变数之自动控制方法。2.1在反馈控制过程中,使用控制回路,将受控制变数与决定受控制变数设定值的命令变数加以比较,借助于对受控制变数作用的受操纵变数,将设定值与受控制变数的实际值间之偏差减到最少。此法之缺点是由于温度影响和减能现象,使控制回路有暂态行为。新法旨在防止控制回路暂态行为的变化。2.2按照本发明,控制回路(l)的回路增益(A),由于命令变数(w)内的脉波形变化,由预定的容许值(m)调节至一数值,在此,受控制变数(x)的实际值超出设定值(s)。因此,受控制变数(x)以最少时间安置到设定值(s),并确保稳定的反馈控制操作。2.3反馈控制光源(尤指雷射二极体)的发射功率。
申请公布号 TW422945 申请公布日期 2001.02.21
申请号 TW088106988 申请日期 1999.04.30
申请人 德米克半导体公司 发明人 葛罗普;诺特兹
分类号 G05B13/00 主分类号 G05B13/00
代理机构 代理人 李志鹏 台北巿民权东路三段一四四号一五二六室
主权项 1.一种受控制变数(X)之调整方法,利用控制回路(1),于此供应命令变数(W)做为输入値,决定受控制变数(X)的设定値(s),其中控制回路(1)之回路增益(A),由于命令变数(W)的脉波形变化结果,调整至一数値,在此受控制变数(X)之实际値超越设定値(s)为预定容许値(m)者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中控制回路(1)的回路增益,是利用自动控制由增益控制器(2)赋予的控制放大器(12A)之增益,而调整者。3.如申请专利范围第2项之方法,其中容许値(m)是利用命令变数(w)决定者。4.如申请专利范围第3项之方法,其中当命令变数(w)有变化时,容许値(m)即以对命令变数(w)的变化値成比例之値而异者。5.如申请专利范围第2项之方法,其中相当于受控制变数(x)设定値(s)和实际値间差异之控制偏差变数(d),是由设定比较阶段(11)形成,又其中控制偏差变数(d)是在增益控制器(2)内与容许値(m)比较,而控制回路(1)的回路增益是按照此试验结果加以控制者。6.如申请专利范围第5项之方法,其中位于受控制变数(x)的二接续信号边缘间的时窗(ta),是由触发信号(同步)限定为评估窗,在其中评估控制偏差变数(d),以自动控制回路增益(A)者。7.一种实施申请专利范围第6项方法之电路配置,其中设有受控制系统(12B),以产生受控制变数(x),并设有含设定値比较阶段(11)和控制放大器(12A)之反馈控制系统(10),以驱动受控制系统(12B),设定値比较阶段(11)系经控制放大器(12A)与受控制系统(12B)连接,且其中增益控制器(2)具有比较器阶段(20),以产生受控制变数(a),相当于容许値(m)和控制偏差变数(d)间的差异符号,以及在比较器阶段(20)输出侧之伺服单位(21),藉此驱动控制放大器(12A),以控制增益者。8.如申请专利范围第7项之电路配置,其中控制放大器(12A)设计成带限放大器阶段者。9.如申请专利范围第8项之电路配置,其中控制放大器(12A)设计成低通或积分器阶段者。10.如申请专利范围第7项之电路配置,其中受控制系统(12B)具有由控制放大器(12A)驱动之光源(120),以产生光学信号(Xhv),以及光检波器(121),以产生相当于光学信号(Xhv)之受控制变数(x)者。11.如申请专利范围第10项之电路配置,其中光源(120)设计成雷射二极体者。12.如申请专利范围第1项之方法,用于自动控制脉波操作之光源的发射功率者。13.如申请专利范围第1项之方法,用于自动控制脉波操作之雷射二极体(120)或光射二极体之发射功率者。图式简单说明:第一图为控制回路的等效电路图,具有增益控制器;可对控制回路的回路增益加以反馈控制;第二图为脉波图,表示第一图所示控制回路之控制行为;第三图为第一图所示控制回路之详细电路图。
地址 德国