| 发明名称 |
Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een wafer. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NL1013989(C2) |
申请公布日期 |
2001.07.02 |
| 申请号 |
NL19991013989 |
申请日期 |
1999.12.29 |
| 申请人 |
ASM INTERNATIONAL N.V. |
发明人 |
ERNST HENDRIK AUGUST GRANNEMAN;VLADIMIR IVANOVICH KUZNETSOV;GERT-JAN SNIJDERS |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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