| 主权项 |
1.一种用于利用电浆来处理基板之处理系统,此处理系统包含:一处理室,其定义一处理空间,此处理室包含一支撑结构,用于在处理空间中支撑一基板;一气体注入口,在处理室中用于引入一处理气体到处理室中;一注入头,位于处理室内,用以由注入口散布处理气体到处理空间之内;一电能供应,用于偏压注入头而以注入头所散布之处理气体形成一电浆;一隔离器组件,位于注入头及处理室之间,此隔离器组件用来将注入头与处理室形成电气隔离;此隔离器组件包含一通道一通过期间,用于由气体注入口经由隔离器组件传送一处理气体,此通道具有彼此间系横向地隔开之区段;此通道另可包含一交叉通道区段,延伸于横向隔开的区段之间而将横向隔开的通道区段耦合在一起,并形成一通过隔离器组件的通道,用以传送一处理气体到注入头;藉此可防止一直接目视式通过隔离器组件的通道,而在处理过程中能够维持电浆的稳定性。2.如申请专利范围第1项之处理系统,其中的隔离器组件包含第一及第二电气隔离元件,每一元件包含一通道区段延伸于其中而用于穿过隔离器元件来透传送一气体,隔离器元件的相对应通道区段系彼此横向地隔开,交叉通道区段则横向地形成于至少一个元件中,并延伸于隔开的通道区段之间而将通道区段耦合在一起,并形成完整的通道。3.如申请专利范围第2项之处理系统,其中该交叉通道区段系完全形成于一元件上。4.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该隔离器组件由石英构成。5.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该电能供应为一射频功率供应,利用射频能量对注入头进行偏压。6.如申请专利范围第2项之处理系统,该隔离器元件为平面隔离板,其中一片堆叠于另一片之上。7.如申请专利范围第6项之处理系统,另可包含对准脚,定位于隔离板之间,用于提供相对应通道区段及交叉通道区段间的对准,以形成上述的通道。8.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该通道在注入头与处理室间形成至少一90度角度,用于一处理气体的流动。9.如申请专利范围第1项之处理系统,其中隔离器组件另可包含穿过的多个通道,每一个通道具有一对横向隔开的通道区段,以及一交叉通道区段与隔开的通道区段耦合在一起。10.如申请专利范围第9项之处理系统,其中多个通道彼此是实质性地隔开。11.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该交叉通道区段为半圆形的形状。12.如申请专利范围第6项之处理系统,其中该隔离板,每一片形成一平面,而上述横向隔开通道区段的配置,一般是垂直于上述的隔离板平面,交叉通道区段一般则配置成与其所形成于其上的隔离板相平行。13.一种利用电浆处理一基板之处理系统,此处理系统包含:一处理室,其定义一处理空间,此处理室包含一支撑结构,用于在处理空间中支撑一基板;一气体注入口,在处理室中用于引入一处理气体到处理室中;一注入头,位于处理室内,用以由注入口散布处理气体到处理空间之内;一电能供应,用于偏压将注入头而以注入头所散布之处理气体形成一电浆;一隔离器组件,位于注入头及处理室之间,此隔离器组件用来将注入头形成与处理室做电气隔离,并具有复数个电气隔离器元件,在注入头与处理室之间配置成彼此相邻;每一个上述的隔离器元件具有穿过其间的一通道区段,用于由气体注入口传送一处理气体通过隔离室元件,相邻隔离器元件的相对应通道,系彼此横向地隔开;至少一交叉通道区段在相邻隔离器元件之横向隔开通道区段间延伸,而将横向隔开的通道耦合在一起,用于通过相邻的隔离器元件而传送一处理气体;藉此可防止一直接目视通过隔离器组件的通道,而在处理过程中能够维持电浆的稳定性。14.一种电气隔离组件,用于在一处理系统中将一偏压的气体散布元件隔离于一接地参考,而利用电浆来处理一基板,此隔离组件包含:一处理室,其定义一处理空间,此处理室包含一支撑结构,用于在处理空间中支撑一基板;一电气隔离器组件,设定在定位于一偏压气体散布元件与一接地参考之间,而为气体散布元件的电气隔离;此隔离器组件具有穿过其间的一通道区段,用于由气体注入口传送一处理气体通过隔离室元件,此通道其中具有彼此间系横向地隔开之区段;此通道另可包含一交叉通道区段在横向隔开通道间延伸,而将横向隔开的通道耦合在一起,并形成通过隔离器元件的完整通道,用于传送一处理气体到一气体散布元件;藉此可防止一直接目视通过隔离器组件的通道,而在处理过程中能够维持电浆的稳定性。15.如申请专利范围第14项之组件,其中隔离器组件包含第一及第二电气隔离元件,每一元件具有一通道区段延伸穿过,用以穿过此隔离器元件而传送一气体,隔离器元件的相对应通道区段系彼此横向地隔开,交叉通道区段则形成于至少一个元件上,并延伸于相隔开的通道区段之间,而将通道区段耦合在一起,并形成完整的通道。16.如申请专利范围第14项之组件,其中该隔离器组件系由石英构成。17.如申请专利范围第14项之组件,其中该隔离器组件为平面的隔离板,并一片堆叠于另一片之上。18.如申请专利范围第14项之组件,其中该通道形成至少一90度角度,用于通过隔离器组件而形成一处理气体的流动。19.如申请专利范围第14项之组件,其中隔离器组件另可包含穿过的多个通道,每一个通道具有一对横向隔开的通道区段,以及一交叉通道区段与隔开的通道区段耦合在一起。20.一种用于利用电浆处理一基板之方法,此方法包含:在一处理室中定位一基板而在其中定义一处理空间;引入处理气体进入处理室;利用位于处理室中的注入头来散布处理气体;对注入头做电气偏压而形成一电浆,并由注入头与处理气体共同散布;将注入头与处理室做电气隔离,利用一隔离器组件定位于处理室与注入头之间;将通过该隔离器组件的处理气体透过通过该隔离器组件的通道传送至注入头;此通道其中具有系彼此横向地隔开之区段,另可包含一交叉通道区段延伸于横向隔开的通道间,而将横向隔开的通道耦合在一起,并用于穿过隔离器组件的通道而传送一处理气体到注入头;藉此可防止一直接目视通过隔离器组件的通道,而在处理过程中能够维持电浆的稳定性。21.如申请专利范围第20项之方法,其中隔离器组件包含第一及第二电气隔离元件,每一元件具有一通道区段延伸穿过,用以穿过此隔离器元件而传送一气体,隔离器元件的相对应通道区段系彼此横向地隔开,交叉通道区段则形成于至少一个元件上,并延伸于相隔开的通道区段之间,而将通道区段耦合在一起,并形成完整的通道。22.如申请专利范围第20项之方法,其中所称的隔离器组件由石英构成。23.如申请专利范围第20项之方法,其中所称的隔离器元件为平面隔离板,其中一片堆叠于另一片之上。24.如申请专利范围第23项之方法,另可包含利用对准脚进行隔离板的对准,其对准脚系定位于隔离板之间,用于提供相对应通道区段及交叉通道区段间的适当的对准,以形成上述穿过组件的通道。25.如申请专利范围第20项之方法,另可包含多个横向隔开的通道区段,其形成于相对应的隔离器元件,一交叉通道区段形成于隔离器组件,并与相关于每一个隔开的通道区段,而将每一个通道区段耦合在一起。26.如申请专利范围第20项之方法,其中所称通道在注入头与处理室之间形成至少一90度角,而用于一处理气体的流动。图式简单说明:第一图所示为一先前技艺的平行板装置的侧面剖视图;第二图所示为一利用本发明提出原理之隔离器组件之侧面剖视图;第三图所示为第一图及第二图所示装置中,一氢气电浆负载电阻中一射频电极的直流偏压,相对于射频功率的曲线图;第四图A所示为一隔离板的上视图,用于符合本发明原理的隔离板组件;第四图B所示为一隔离板的下视图,如第四图A,亦用于符合本发明原理的隔离板组件; |
