| 主权项 |
1.一种流体输送系统,其特征是包含有:流体储存和分配容器;固相实体吸附剂媒体,被配置在该容器内,用来将对该实体吸附剂媒体之吸附亲和力之流体吸附式的保持在其上;渗透室包围有一个内部,和包括有渗透结构,结合成与流体储存和分配容器相通,用来使流体之渗透经由渗透结构藉以获得渗透流体;排放装置,用来从该渗透室排放渗透流体;和控制装置,以可控制之方式用来将该渗透流体之浓度维持在选定之位准。2.如申请专利范围第1项之系统,其中该渗透结构包含有扩散管,可以扩散式的释放渗透流体使其进入渗透室。3.如申请专利范围第1项之系统,其中该渗透室结合成可以与载体气体源进行流体流动沟通,藉以使载体气体选择性的导入到扩散室,促成从渗透室排放之渗透气体带入在该载体气体。4.如申请专利范围第1项之系统,其中该固相实体吸附剂媒体包含吸附剂材料选自包含氧化矽、氧化铝、铝矽化物、巨网聚合物、矽藻土、泥土、碳,和其组合之群组。5.如申请专利范围第1项之系统,其中该固相实体吸附剂媒体包含有铝矽化物。6.如申请专利范围第1项之系统,其中该固相实体吸附剂媒体包含有活性碳吸附剂。7.如申请专利范围第1项之系统,其中以可控制之方式用来维持该渗透流体浓度之该装置包含有处理状况感测器,经由处理控制器耦合到流动控制元件,用来调节在该系统流动之流体之流动率藉以回应该处理状况感测器所感测到之处理状况。8.如申请专利范围第7项之系统,其中该处理状况感测器用来感测流动到渗透结构之流体之压力。9.如申请专利范围第7项之系统,其中该处理状况包含从扩散室排放之渗透流体之压力。10.如申请专利范围第7项之系统,其中该处理控制器用来调节储存和分配容器和渗透室之到少之一之加热,藉以维持该渗透气体之该浓度。11.如申请专利范围第10项之系统,其中该流体储存和分配容器被选择性的加热用来维持该浓度。12.如申请专利范围第10项之系统,其中该渗透室被选择性的加热用来维持该浓度。13.如申请专利范围第1项之系统,其中该渗透结构包含扩散管。14.如申请专利范围第1项之系统,其中该渗透结构包含扩散膜。15.一种输送低浓度流体以进行使用该流体之处理之方法,该处理所包含之步骤有:设置储存和分配容器其中含有固相实体吸引剂媒体吸附式的在其上保持有流体,该流体对实体吸附剂媒体具有吸附亲和力:对于来自该实体吸附剂媒体进行选择性之去吸附,和从该容器将其排放;使被排放之流体流动到扩散渗透结构;扩散该流体使其流经扩散渗透结构;和以选定之浓度排放该被扩散之流体。16.如申请专利范围第15项之方法,其中更包含监视至少为一个之处理状况,和控制在该处理之流体之流动,藉以维持选定之排放浓度。17.如申请专利范围第16项之方法,其中该至少为一个之处理状况包含该流体之压力。18.如申请专利范围第15项之方法,其中经由对该容器加热用来维持该选定之浓度。19.如申请专利范围第15项之方法,其中该扩散渗透结构被加热用来维持该选定之排放浓度。20.如申请专利范围第15项之方法,其中载体气体与渗透气体一起流动用来渗透气体带入载体气体,藉以从该处理排放。图式简单说明:第一图是本发明之一具体例之储存和分配容器及其有关之流动路径之概略斜视图,用以流体之储存和分配非常有用。第二图是本发明之一具体例之流体输送系统之概略图。 |
