| 主权项 |
1.一种电浆蚀刻装置,包含:电浆腔室,其间LCD玻璃基板藉由电浆蚀刻之;阳极,其形成于该电浆腔室之相对侧;阴极,包含:导体旋转轴,其被旋转配置于该电浆腔室内;绝缘体,其形成于该旋转轴上;阴极电极,其形成于该绝缘体之上下表面,且系相对于该阳极且电连接至该旋转轴;阴极电极保护覆盖物,用以该阴极电极之端缘部份,其未被负载于该阴极电极上之该LCD玻璃基板所覆盖;及夹钳装置,用以使该LCD玻璃基板之端缘部份夹钳至该阴极电极;RF动力供应装置,用以供应该阴极之该旋转轴RF动力;来源气体供应装置,用以供应该电浆腔室来源气体;及排气器,用以排放残余之气体及废气,其中,当该阴极电极保护覆盖物与该阴极电极结合时,该阴极电极保护覆盖物之高度系高于该阴极电极之高度。2.如申请专利范围第1项之电浆蚀刻装置,其中该阴极电极保护覆盖物系由具有高电浆抗性之陶瓷材料形成。3.如申请专利范围第1项之电浆蚀刻装置,其中该阴极电极保护覆盖物系高于该阴极电极至少0.1mm。4.如申请专利范围第3项之电浆蚀刻装置,其中该阴极电极保护覆盖物系高于该阴极电极0.1-0.2mm。5.如申请专利范围第1项之电浆蚀刻装置,其中当具该LCD玻璃基板之电浆蚀刻方法完成时,藉由该LCD玻璃基板及该阴极电极之接触而造成之静电藉由连续降低该RF动力供应装置之该RF动力而移除。6.如申请专利范围第5项之电浆蚀刻装置,其中该RF动力被降低之时间系至少1秒钟。7.如申请专利范围第6项之电浆蚀刻装置,其中该RF动力被降低之时间系约5秒钟。8.如申请专利范围第1-6项之任一项之电浆蚀刻装置,其中该基质系用于LCD之玻璃基质或用于数LCD之玻璃基板。9.一种液晶显示模组,包含:液晶显示嵌板,包含:(a)TFT基质,其上数个薄膜电晶体被形成;(b)色滤器基质,其系面向该TFT基质;及(c)液晶层,其置于该TFT基质与该色滤基质之间,用以使入射光束通过或阻绝;及后光组件,用以供应光束至该液晶显示器嵌板及支撑该液晶显示嵌板;其中该TFT基质之该薄膜电晶体使用如申请专利范围第1至6项之任一项之电浆蚀刻装置形成。图式简单说明:第一图系传统TFT截面图。第二图系传统电浆蚀刻装置之阴极之部份透视图;第三图系取自第二图之线A-A之截面图;第四图系显示当LCD玻璃基板藉由传统夹子固定时之形成于阴极及LCD玻璃基板之中心部份之间之间隙之概念图;第五图系包含传统六个具有燃烧光阻部份之LCD嵌板之LCD玻璃基板之上视图;第六图系依据本发明之电浆蚀刻装置之透视图;第七图系沿第六图之线B-B之截面图;第八图系依据本发明之阴极之扩张透视图;第九图系第八图之阴极之部份破裂之透视图;第十图系第九图之部份之近视图;第十一图系依据本发明之夹子之截面图;第十二图系图示具有高于阴极电极之上表面之上表面之阴极电极保护覆盖物之作用;及第十三图系用以操作夹子之夹子杆驱动单元之概念图。 |
