试料的剖面构造观察方法

摘要

本发明之目的课题，系提供一种于使用集聚离子束装置之观察剖面之加工、观察技术，以获得在剖面部加工之过程在试料表面明示原本之试料表面形状之显微镜像之方法。本发明之解决手段，系在未加工之试料表面首先形成与该试料表面相异材料之被覆层，其后执行形成保护层之淀积(deposition)，并且，实施其部分之剖面加工，成为原本试料表面与由淀积在保护层附着堆积部分之境界成为具有不同材料被膜层之形态者，于显微镜像此不同材其之被膜层之存在为可明示试料表面形状。

主权项

1.一种试料沟部之剖面构造观察方法,其系由:在试料表面形成与该表面之物质不同材质所成之被覆层之步骤,与在观察剖面部附近由气枪之喷射与离子束之照射以形成保护层之步骤,与从试料面上部方向照射高电流之集聚离子束,在观察剖面前方施加开观察用孔加工之步骤,与从试料面上部方向照射低电流之集聚离子束以研磨观察剖面之步骤,与倾斜试料台对于观察剖面扫描深角度之离子束以得到该观察剖面之显微镜像之步骤所构成。2.如申请专利范围第1项之试料沟部之剖面构造观察方法,其中试料表面之被覆层系照射集聚离子束在试料开孔,将表面材料以外之物质藉蚀刻飞溅形成者。3.如申请专利范围第1项之试料沟部之剖面构造观察方法,其中试料表面之被覆层系由气枪喷射与离子束照射以形成淀积。4.如申请专利范围第1项之试料沟部之剖面构造观察方法,其中试料表面之被积层系由喷溅所形成者。5.如申请专利范围第1项之试料沟部之剖面构造观察方法,其中试料表面之被覆层系由热淀积形成者。图式简单说明:第一图A系用来说明本发明之观察剖面部之加工步骤与观察显微镜像之摄影方法之图。第一图B系用来说明本发明之观察剖面部之加工步骤与观察显微镜像之摄影方法之图。第一图C系用来说明本发明之观察剖面部之加工步骤与观察显微镜像之摄影方法之图。第一图D系用来说明本发明之观察剖面部之加工步骤与观察显微镜像之摄影方法之图。第二图系依本发明之手法所加工之薄膜磁头沟部之剖面显微镜像。第三图A系用来说明以往试料之观察剖面加工步骤之图。第三图B系用来说明以往试料之观察剖面加工步骤之图。第三图C系用来说明以往试料之观察剖面加工步骤之图。