发明名称 FINFET FIN FIELD EFFECT TRANSISTOR FINFET DEVICE STRUCTURE WITH INTERCONNECT STRUCTURE
摘要 반도체 소자 구조물, 및 반도체 소자 구조물을 형성하기 위한 방법이 제공된다. 반도체 소자 구조물이 기판 위에 형성된 제1 금속 층 및 제1 금속 층 위에 형성된 유전체 층을 포함한다. 반도체 소자 구조물이 유전체 층 내에, 그리고 유전체 층 내에 형성된 제1 금속 층 및 제2 금속 층 위에 형성된 부착 층을 더 포함한다. 제2 금속 층이 제1 금속 층에 전기적으로 연결되고, 부착 층의 일부가 제2 금속 층과 유전체 층 사이에 형성된다. 부착 층이 제2 금속 층의 상단 부분을 따라 배치되는 제1 부분을 포함하고, 제1 부분은 수직 방향을 따르는 연장 부분을 갖는다.
申请公布号 KR20160147618(A) 申请公布日期 2016.12.23
申请号 KR20150146606 申请日期 2015.10.21
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 창 체-쳉;린 치-한
分类号 H01L29/78;H01L29/423 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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