发明名称 旋转处理装置
摘要 一种旋转处理装置,系由:其上面配置有被处理基板,且可以旋转之旋转台;及旋转驱动上述旋转台之旋转驱动体;及与上述旋转台一同旋转之多数个保持构件;此保持构件,为了在上述旋转台的上方,保持上述被处理基板的周边部,而在靠近上述旋转台之周边部附近具有旋转支点,以此旋转支点为中心,在对上述旋转台之半径方向上转动自如,且在一端部具有保持上述被处理基板之保持部,而在另一端具有被加压部;及设置在上述旋转台上,将上述保持构件的各个上述保持部,往上述旋转台的中心侧弹压之弹压构件;及配置在上述旋转台的下方,对上述被加压部施加与上述弹压构件之弹压方向相反的方向之作用力,而可以上下移动之加压构件;以及驱动上述加压构件,使其在上下方向移动之驱动机构所构成。
申请公布号 TW475218 申请公布日期 2002.02.01
申请号 TW087100656 申请日期 1998.01.19
申请人 东京威力科创有限公司 发明人 松下道明
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 2.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,收容有用来缓和冲击所需之弹性构件。3.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中上述加压构件,系由藉由往上方移动来加压上述加压构件之环状构件所构成。4.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中,位于上述旋转支点的下方位置处,具有设置在上述被加压部之重锤。5.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中,包含支撑上述加压构件,且藉由上述驱动机构而往上下方向被驱动之略环状的加压支撑材。6.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,收容有用来缓和冲击所需之弹性构件。7.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,上述加压支撑材,系支撑等间隔地配置在其圆周上之至少3个加压构件。8.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,系由藉由往上方移动来加压上述加压构件之环状构件所构成。9.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,若上述加压支撑材藉由上述驱动机构而往上昇,则上述加压构件抵接在上述保持构件之上述被加压部上;藉由将上述被加压部往上推压,来解除上述保持构件对上述被处理基板的保持状态。10.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,若上述加压支撑材藉由上述驱动机构而往下降,则解除上述加压构件对上述被加压部之加压;于是上述保持构件藉由上述弹压构件的作用力而转动,使上述保持构件保持着上述被处理基板的周边部。11.如申请专利范围第5项之旋转处理装置,其中,位于上述旋转支点的下方位置处,具有设置在上述被加压部之重锤。12.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中,上述驱动机构,系藉由不活泼气体的导入、排出,而使上述加压构件往上下方向驱动之气压缸所构成。13.如申请事利范围第12项之旋转处理装置,其中,位于上述旋转支点的下方位置处,具有设置在上述被加压部之重锤。14.如申请专利范围第12项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,收容有用来缓和冲击所需之弹性构件。15.如申请专利范围第12项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,系由藉由往上方移动来加压上述加压构件之环状构件所构成。16.如申请专利范围第1项之旋转处理装置,其中,具有将不活泼气体供给至保持在上述旋转台上方之被处理基板的内面方向之气体流路。17.如申请专利范围第16项之旋转处理装置,其中,沿着上述被处理基板的内面,具有导引不活泼气体之整流板。18.如申请专利范围第16项之旋转处理装置,其中,上述旋转驱动体,与上述旋转台结合;且该旋转驱动体系由马达所构成;此马达具有内部形成有上述气体流路(gas path)之中空轴;且具有不活泼气体供给部;此气体供给部,系经由上述气体流路,将不活泼气体供给至上述旋转台之内面中心。19.如申请专利范围第18项之旋转处理装置,其中,位于上述旋转支点的下方位置处,具有设置在上述被加压部之重锤。20.如申请专利范围第18项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,收容有用来缓和冲击所需之弹性构件。21.如申请专利范围第18项之旋转处理装置,其中,上述加压构件,系由藉由往上方移动来加压上述加压构件之环状构件所构成。22.一种旋转处理装置,系由:其上面配置有被处理基板,且可以旋转之旋转台;及旋转驱动上述旋转台之旋转驱动体;及与上述旋转台一同旋转之多数个保持构件;此保持构件,为了在上述旋转台的上方,保持上述被处理基板的周边部,而在靠近上述旋转台之周边部附近具有旋转支点,以此旋转支点为中心,在对上述旋转台之半径方向上转动自如,且在一端部具有保持上述被处理基板之保持部,而在另一端具有被加压部;及设置在上述旋转台上,即使此旋转台未达到预定的速度,为了保持前述被处理基板之周边部,也将上述保持构件的各个上述保持部,往上述旋转台的中心侧弹压之弹压构件;及配置在上述旋转台的下方,对上述被加压部施加与上述弹压构件之弹压方向相反的方向之作用力之加压构件;以及为了藉由上述加压构件来加压或不加压上述被加压部,而驱动上述加压构件和上述旋转台,使上述两构件相对地往上下方向驱动,且当前述旋转台停止时,为了解除前述被处理基板的保持状态利用前述加压构件使前述加压部加压之驱动机构所构成。图式简单说明:第1图系关于组合入本发明之一实施例的旋转洗净装置(rotary cleaning machine)的光阻剂涂布.显像处理系统(photoresisit coating/developing system)的外观斜视图。第2图系同一实施例之旋转洗净装置的部分纵剖面图。第3图系同一实施例之旋转洗净装置的俯视图。第4图系同一实施例之旋转洗净装置之旋转台中心部位的扩大纵剖面图。第5图系在同一实施例之旋转洗净装置中,当保持构件处于保持状态时之旋转台周边部的侧视图。第6图系在同一实施例之旋转洗净装置中所使用的保持构件之俯视图。第7图系在同一实施例之旋转洗净装置中所使用的保持构件之斜视图。第8图系在同一实施例之旋转洗净装置中所使用的加压支撑材之斜视图。第9图系在同一实施例之旋转洗净装置中,当保持构件处于解除状态时之旋转台周边部的侧视图。第10图系在同一实施例之旋转洗净装置中所使用的其他保持构件之斜视图。第11图系同一实施例之旋转洗净装置之另外的旋转台中心部位的扩大纵剖面图。
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