| 主权项 |
1.一种准分子雷射装置,具备:封入雷射气体之雷射容器;配置在该雷射容器内之用以获得能够产生雷射光之振荡之放电的一对主放电电极;设置在前述雷射容器内用以形成通过前述主放电电极间之雷射气体流的贯流扇;于该贯流扇之轴方向的一端与该贯流扇为同轴并向离开该贯流扇的方向凸出而设之旋转轴;以及支承着该旋转轴而以单侧支承梁式保持前述贯流扇之轴承装置。2.如申请专利范围第1项之准分子雷射装置,其中前述轴承装置具备于前述旋转轴之轴线方向隔以间隔而设之两个径向磁性轴承。3.如申请专利第2项之准分子雷射装置,其中于前述两个径向磁性轴承之间设有驱动连结于前述旋转轴之马达。4.如申请专利范围第1至3项之任一项的准分子雷射装置,其中前述旋转轴设有轴向磁性轴承。5.如申请专利范围第1至3项之任一项的准分子雷射装置,其中具有分别邻接前述两个径向磁性轴承而设置之保护用轴承,该保护用轴承于前述径向磁性轴承不动作时用以支承前述旋转轴。6.如申请专利范围第1至3项之任一项的准分子雷射装置,其中前述贯流扇于轴线方向相互整合而邻接的设有两个,该贯流扇各自的旋转轴系以沿轴向从与两贯流扇相邻接的端部相反的相反侧端部突出的方式设置。7.如申请专利范围第1至3项之任一项的准分子雷射装置,其中前述贯流扇于该贯流扇之与前述轴方向之一端相反之相反侧端部设有振动抑制装置。8.如申请专利范围第7项之准分子雷射装置,其中前述振动抑制装置系与前述贯流扇同心地设在前述相反侧的端部上,并具备向离开该贯流扇之方向凸出的旋转轴、固定于该旋转轴的圆板、以及贯通该圆板之磁气通路的磁铁装置。9.如申请专利范围第1至3项之任一项的准分子雷射装置,其中前述贯流扇系由沿轴方向平行设置之复数枚环状板、及贯通该复数枚环状板而在轴方向延伸之复数枚叶片构成之隙笼状构造。10.如申请专利范围第9项之准分子雷射装置,其中前述叶片系以轻量而高强度的铝合金材料构成,并且于其表面实施对于雷射气体之耐腐蚀处理。图式简单说明:第1图表示本发明第1实施例之准分子雷射装置的构成图,第1图(a)为全体纵断面图,第1图(b)为磁性轴承部及马达部之扩大断面图。第2图表示本发明第2实施例之准分子雷射装置使用之贯流扇的构造图。第3图表示本发明第3实施例之准分子雷射装置之构成的纵断面图。第4图表示本发明第4实施例之准分子雷射装置之构成的纵断面图。第5图表示习用之准分子雷射装置之概略构成例的纵断面图。第6图表示沿第5图之Z-Z的断面图。 |
