| 主权项 |
1.一种鼻用贴膜,系为一种由保持体与化粧料所成,适用于鼻之皮肤之膜状鼻用贴膜,其特征在于:该贴膜之上缘部之中央部形成凹部;同时,该贴膜之下缘部之中央部形成凸部,此等凹部与凸部系为相互嵌合之形状。2.根据申请专利范围第1项之鼻用贴膜,其中:凹部或凸部之外形为宽度5-50mm,高度3-30mm3.根据申请专利范围第2项之鼻用贴膜,其中:凹部或凸部之外形为由曲率半径3-40mm之圆弧所成。4.根据申请专利范围第1-3项之任一项之鼻用贴膜,其系被保持于剥离膜上。5.根据申请专利范围第1至3项之任一项之鼻用贴膜,其中:保持体系为透湿性。6.根据申请专利范围第4项之鼻用贴膜,其中:保持体系为透湿性。7.根据申请专利范围第5项之鼻用贴膜,其中:透湿性保持体系由具有拨水层及亲水层之多层型透湿性保持体所成,化粧料至少被保持于亲水层,拨水层形成为膜状之贴膜之一方之表面。8.根据申请专利范围第6项之鼻用贴膜,其中:透湿性保持体系由具有拨水层及亲水层之多层型透湿性保持体所成,化粧料至少被保持于亲水层,拨水层形成为膜状之贴膜之一方之表面。9.根据申请专利范围第7项之鼻用贴膜,其中:多层型透湿性保持体之拨水层与亲水层各由不织布所成,化粧料系由去粉刺化粧料所成。10.根据申请专利范围第8项之鼻用贴膜,其中:多层型透湿性保持体之拨水层与亲水层各由不织布所成,化粧料系由去粉刺化粧料所成。11.根据申请专利范围第9项之鼻用贴膜,其中:去粉刺化粧料包含高分子化合物、该高分子化合物具有选自羧基、磺酸残基、硫酸残基、磷酸残基、硝酸残基、氨基及铵基之盐生成基。12.根据申请专利范围第10项之鼻用贴膜,其中:去粉刺化粧料包含高分子化合物、该高分子化合物具有选自羧基、磺酸残基、硫酸残基、磷酸残基、硝酸残基、氨基及铵基之盐生成基。13.根据申请专利范围第11项之鼻用贴膜,其中:去粉刺化粧料含有聚氯化甲基丙烯醯基氧乙基三甲基铵。14.根据申请专利范围第12项之鼻用贴膜,其中:去粉刺化粧料含有聚氯化甲基丙烯醯基氧乙基三甲基铵。图式简单说明:图1:本发明之鼻用贴膜之平面图(同图(a))及断面图(同图(b))。图2:将本发明之鼻用贴膜自原版切出之状态之说明图。图3:本发明之鼻用贴膜之平面图。图4:本发明之鼻用贴膜之平面图。图5:本发明之鼻用贴膜之平面图。图6:本发明之鼻用贴膜之平面图。图7:将习知之鼻用贴膜之下缘部中央部设有凸部之鼻用贴膜自原版切出之状态之说明图。图8:将习知之鼻用贴膜之下缘部中央部设有凸部之鼻用贴膜自原版切出之状态之说明图。图9:习知之鼻用贴膜之下缘部中央部设有凸部之鼻用贴膜之平面图。图10:将习知之鼻用贴膜自原版切出之状态之说明图。图11:将习知之鼻用贴膜自原版切出之状态之说明图。图12:习知之鼻用贴膜之平面图(同图(a))及将其适用于鼻子之状态之说明图(同图(b))。图13:将习知之鼻用贴膜适用于鼻子之情况时之问题点之说明图。 |
