发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
摘要 본 발명은 산화물 반도체를 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 전계 효과 이동도를 향상시키는 것을 과제의 하나로 한다. 또, 박막 트랜지스터의 전기적 특성을 안정시키는 것을 과제의 하나로 한다. 산화물 반도체층을 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 상기 산화물 반도체층 위에, 상기 산화물 반도체보다 도전율이 높은 반도체층 또는 도전층을 형성함으로써, 상기 박막 트랜지스터의 전계 효과 이동도를 향상시킬 수 있다. 또, 산화물 반도체층과 박막 트랜지스터의 보호 절연층 사이에 상기 산화물 반도체층보다 도전율이 높은 반도체층 또는 도전층을 형성함으로써, 산화물 반도체층의 조성 변화나 막질의 열화를 막고, 박막 트랜지스터의 전기적 특성을 안정시킬 수 있다.
申请公布号 KR101665954(B1) 申请公布日期 2016.10.24
申请号 KR20090108988 申请日期 2009.11.12
申请人 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 发明人 쿠와바라 히데아키;아키모토 켄고;사사키 토시나리
分类号 H01L29/786;G02F1/1368;H01L21/336 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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