| 主权项 |
1.一种充电构件,该充电构件系使用于电摄影,且在导电性支撑件上具有至少两层,该充电构件系由包括以下步骤之方法获得:执行机械磨耗以去除形成在充电构件上的至少一表面层,其中该机械磨耗系使用水的湿磨耗;及在藉由磨耗而被显露的表面上形成一层。2.如申请专利范围第1项的充电构件,其中该充电构件与电摄影感光构件接触设置,且在施加电压时,静电充电电摄影感光构件。3.如申请专利范围第1或2项的充电构件,其中该感光构件其有弹性层及覆盖层。4.如申请专利范围第1或2项的充电构件,其中该充电构件有滚子的形状。5.一种充电构件,使用于电摄影,且包括导电性支撑件及形成在导电性支撑件上的至少两层;该充电构件其有表面层,此表面层为在已藉由机械磨耗来去除已形成在充电构件上的至少一表面层之后所形成的层,其中该机械磨耗系使用水的湿磨耗。6.如申请专利范围第5项的充电构件,其中该充电构件与电摄影感光构件接触设置,且在施加电压时,静电充电电摄影感光构件。7.如申请专利范围第5或6项的充电构件,其中该充电构件其有弹性层及覆盖层。8.如申请专利范围第5或6项的充电构件,其中该充电构件具有滚子的形状。9.如申请专利范围第5或6项的充电构件,其中该充电构件为已经被再制造的充电构件。10.一种处理卡匣,包括具有充电构件的充电机构及择自由电摄影感光构件、显影机构、及清洁机构所组成的族群的一附加机构;该充电构件具有形成在导电性支撑件上的至少两层;该充电构件具有表面层,此表面层为在已藉由机械磨耗来去除已形成在充电构件上的至少一表面层之后所形成的层,其中该机械磨耗系使用水的湿磨耗;且该充电构件与该附加机构成整体地支撑在电摄影装置的本体中及可从该装置拆离。11.如申请专利范围第10项的处理卡匣,其中该充电构件与电摄影感光构件接触设置,且在施加电压时,静电充电电摄影感光构件。12.如申请专利范围第10或11项的处理卡匣,其中该充电构件具有弹性层及覆盖层。13.如申请专利范围第10或11项的处理卡匣,其中该充电构件具有滚子的形状。14.如申请专利范围第10或11项的处理卡匣,其中该充电构件为已经被再制造的充电构件。图式简单说明:图1显示根据本创作的充电构件的层结构的例子。图2显示根据本创作的充电构件的层结构的另一例子。图3显示在应用本创作的再制造方法之前的充电构件的层结构的例子。图4概略显示使用于本创作的磨耗机构的构造的例子。图5概略显示具有包含本创作的充电构件的处理卡匣的电摄影装置的结构的例子。 |
