| 主权项 |
1.一种光学系统之曝光单元,包括一曝光系统,其包括,以下列次序,一辐射源单元,一镜面系统及一第一透光杆,同时进一步包括一内置之REMA,其特征在于该曝光系统包括一第二透光杆,其设置之方式,系与该第一透光杆保持垂直,该等透光杆共同围绕着一菱镜系统,其包括至少一菱镜,其系作为折射元件,该菱镜系统具有一耦合-输出面(coupling-outsurface),透过该耦合输出面,光线可以由该曝光系统耦合输出,以及一出口平面,经由该平面,光线可以由该菱镜系统耦合输出,以及在该菱镜系统之出口平面附近,设置有一能量感测器。2.根据申请专利范围第1项之曝光单元,其特征在于该菱镜系统包括一菱镜,其中该菱镜之斜面系该曝光系统之耦合输出面,以及该菱镜系统之出口平面。3.根据申请专利范围第1项之曝光单元,其特征在于该菱镜系统包括一第一及第二菱镜,其中该等菱镜之斜边系采面对面方式设置,其中该第一菱镜系作为折射元件,而该耦合输出平面则系界于该第一及第二菱镜间,而该出口平面,则与该第二菱镜之顶部平面重叠。4.根据申请专利范围第1项之曝光单元,其特征在于该菱镜系统包括一第一及第二菱镜,其中该等菱镜之斜边系采面对面方式设置,其中进一步包括一第三菱镜,其系设置在该第一及第二菱镜之间,并做为折射元件,而另一端,则设置有一第一透光杆,该第三菱镜之斜边则涂敷有一层高反射涂料,而该耦合-输出平面系介于该第一及第二菱镜,而该出口平面,则与该第二菱镜之顶部平面重叠。5.根据申请专利范围第1,2或3项之曝光单元,其特征在于该第一菱镜之斜边涂敷有一层反射层,同时该反射层至少部份是透光的。6.根据申请专利范围第4项之曝光单元,其特征在于该第一菱镜之斜边涂敷有一层反射层,同时该反射层至少部份是反光的。7.根据申请专利范围第5项之曝光单元,其特征在于该反射层具有多数个孔洞。8.根据申请专利范围第5项之曝光单元,其特征在于该反射层含有铝。9.根据申请专利范围第5项之曝光单元,其特征在于该反射层含有一介电材料。10.根据申请专利范围第9项之曝光单元,其特征在于该耦合-输出平面包括有凸点,该等凸点出现在该第二菱镜之斜边上,同时与该第一菱镜之斜边形成光学性之接触。11.根据申请专利范围第10项之曝光单元,其特征在于该凸点间设置有光学性之密度材料。12.根据申请专利范围第2项之曝光单元,其特征在于该第一菱镜之斜边具有一种表面结构,该结构可为一种菱镜,凹陷部或一微漫射元件。13.根据申请专利范围第3项或第4项之曝光单元,其特征在于该第一及第二菱镜之斜边系用胶黏在一起。14.根据申请专利范围第3项或第4项之曝光单元,其特征在于该第一及第二菱镜间具有一道空气间隙,同时在该等斜边间,至少包括一间隔元件。15.根据申请专利范围第3项之曝光单元,其特征在于该第二菱镜之侧边平面上至少涂敷有一层防止反射之涂层。16.根据申请专利范围第3项之曝光单元,其特征在于该第二菱镜之侧边平面上,至少设置有一光束场。17.根据申请专利范围第1,2,3,或4项之曝光单元,其特征在于该菱镜系统之出口平面及该能量感测器之感测管间,设置有一漫射元件。18.根据申请专利范围第17项之曝光单元,其特征在于该漫射元件系由乳白色玻璃所构成。19.根据申请专利范围第17项之曝光单元,其特征在于该间隔元件为一挠性薄膜,同时该漫射元件为一梯型,该元件具有一较大之直径,面对着该能量感测器。20.根据申请专利范围第19项之曝光单元,其特征在于该漫射元件上具有一较大之直径,且面对着该菱镜系统之平面,涂敷有一层含有铬之涂层。21.根据前述申请专利范围第1,2,3或4项之曝光单元,其特征在于该能量感测器包括一感测器管,其内壁涂敷有一层高反射性涂层。22.一种在基层上重覆形成一层光罩图案之装置(100),包含一曝光系统,该曝光系统包括一辐射源单元,一镜面系统,一第一透光杆及一内置之REMA,其特征在于该曝光系统包括一第二透光杆,其设置之方式,系与该第一透光杆保持垂直,该等透光杆共同围绕着一菱镜系统,其包括至少一菱镜,其系作为折射元件,该菱镜系统具有一耦合-输出面(coupling-outsurface),透过该耦合输出面,光线可以由该曝光系统耦合输出,以及一出口平面,经由该平面,光线可以由该菱镜系统耦合输出,以及在该菱镜系统之出口平面附近,设置有一能量感测器。23.根据申请专利范围第22项之装置(100),其特征在于该装置配置有一回馈装置,并以能量感测器测量到之数値,做为控制辐射源之基础。图式简单说明:图1为根据本创作实施之一种装置,其可以重覆地在一基层上形成一光罩图案;图2,3及4为根据本创作所实施之一种曝光单元;图5(a)至5(i)则揭露出一些根据本创作而应用在曝光单元上之菱镜系统之实施例;图6则揭露出一种菱镜系统之实施例,其配置有两具菱镜,且系使用在根据本创作之曝光单元上,其中该菱镜系统配置有一间隔器元件及一光束场;图7揭露出一种根据本创作曝光单元之一实施例;及图8为配置有漫射元件之菱镜系统,其可以应用在根据本创作之曝光单元上。 |
