| 主权项 |
1.一种利用制成水之电阻率(resistivity of product water)来生产高纯度水的控制方法,其可制造出电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内之高纯度水,该方法包括下列步骤:(a)提供一待纯化之供应水流(feedwater);(b)提供一第一逆渗透模组(10),其具有第一高压侧(8)和第一低压侧(12),并且有一第一渗透液(permeate)生成在该第一低压侧(12);(c)监控即将加到该第一逆渗透模组高压侧(8)之供应水流的pH値;(d)将该供应水流加到该第一逆渗透模组之高压侧(8);(e)提供一第二逆渗透模组(18),其具有第二高压侧(16)和第二低压侧(22),用以生产高纯化之制成水;(f)将该第一渗透液由该第一逆渗透模组(10)导入该第二逆渗透模组之高压侧(16):(g)量测在该第二逆渗透模组之第二低压侧(22)所得到之制成水的电阻,用以提供一电阻量测値(resistance measurement):(h)将该电阻量测値传达至一可程式逻辑控制器(34);(i)在该可程式逻辑控制器中,将该电阻量测値与一先前的电阻量测値作比较,以提供一比较値;以及(j)回应于该比较値,保持或者升高/降低该供应水流的pH値,在调整pH値之前,对该供应水流做细微过滤(nanofiltration),或去硷化之步骤,并保持该供应水流的pH値在7~10之间,藉以生产具有期望电阻率的高纯度水。2.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一对该供应水流作除气处理(degassing)的步骤,用以去除二氧化碳气体。3.如申请专利范围第1项所述之方法,包括为回应一电阻量测値而向上调整该供应水流之pH値来增加该电阻量测値。4.如申请专利范围第1项所述之方法,包括在该可程式逻辑控制器(34)中提供该制成水的电阻量测値范围,并且为了回应该电阻量测値,改变该供应水流的pH値以使该制成水的电阻量测値保持在该电阻量测値范围内。5.如申请专利范围第1项所述之方法,包括量测该第一渗透液的pH値变动量和将该pH値变动量传达至该可程式逻辑控制器(34),并且为了回应该pH値变动量,保持或改变该供应水流的pH値以产制具有电阻率至少为0.8百万欧姆-公分的高纯度水。6.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一使即将被导入该第一逆渗透模组(10)之供应水流保持在40至95℉温度范围内的步骤。7.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一使即将被导入该第一逆渗透模组(10)之供应水流保持在66至78℉温度范围内的步骤。8.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一保持该供应水流之pH値在8至10范围内并且保持该第一渗透液之pH値在6至7范围内的步骤。9.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一保持该供应水流之pH値在7至9范围内并且保持该第一渗透液之pH値在9至9.5范围内的步骤。10.如申请专利范围第1项所述之方法,包括量测该第一渗透液的pH値和将该pH値传达至该可程式逻辑控制器(34),并且为了回应该pH値,保持或改变该供应水流的pH値以保持该第一渗透液之pH値在6至7.5范围内。11.一种连续地生产高纯度制成水的控制方法,其可制造出电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内之高纯度制成水,该方法包括下列步骤:(a)提供一待纯化之供应水流;(b)对该供应水流作至少一软化或细微过滤处理,以得到前处理水(pretreated feedwater);(c)提供一第一逆渗透模组(10),其具有第一高压侧(8)和第一低压侧(12),并且有一第一渗透液(permeate)生成在该第一低压侧(12);(d)监控该经过细微过滤或软化处理后而尚未加到该第一逆渗透模组高压侧(8)之供应水流的pH値,并且保持该前处理水之pH値在8至9.5范围内;(e)将该前处理水流加到该第一逆渗透模组之高压侧(8);(f)提供一第二逆渗透模组(18),其具有第二高压侧(16)和第二低压侧(22),用以生产高纯化之制成水;(g)将该第一渗透液由该第一逆渗透模组(10)导入该第二逆渗透模组之高压侧(16):(h)至少量测该第一渗透液的pH値,或是在该第二逆渗透模组之第二低压侧(22)所得到之制成水的电阻,用以提供一量测値(measurement);(i)将该量测値传达至一可程式逻辑控制器(34);(j)在该可程式逻辑控制器(34)中,将该量测値与一先前的量测値作比较,以提供一比较値;以及(j)回应于该比较値,保持或者升高/降低该供应水流的pH値,藉以生产具有期望电阻率的高纯度水。12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该量测値系电阻量测値。13.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该量测値系pH量测値。14.如申请专利范围第11项所述之方法,于调整该pH値之前,更包括一对该供应水流作细微过滤的步骤。15.如申请专利范围第11项所述之方法,于调整该pH値之前,更包括一对该供应水流作去硷化的步骤。16.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一对该供应水流作除气处理的步骤,用以去除二氧化碳气体。17.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一保持该制成水的电阻率在至少0.8百万欧姆-公分的步骤。18.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一保持该制成水的电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内的步骤。19.如申请专利范围第11项所述之方法,包括为回应一电阻量测値而向上调整该供应水流之pH値来增加该电阻量测値。20.如申请专利范围第11项所述之方法,包括对该中间渗透液(interpass permetate)作除气处理。21.如申请专利范围第11项所述之方法,包括在该可程式逻辑控制器(34)中提供该制成水的电阻量测値范围,并且为了回应该电阻量测値,改变该供应水流的pH値以使该制成水的电阻量测値保持在该电阻量测値范围内。22.如申请专利范围第11项所述之方法,包括量测该第一渗透液的pH値变动量和将该pH値变动量传达至该可程式逻辑控制器(34),并且为了回应该pH値变动量,保持或改变该供应水流的pH値以产制具有电阻率至少为0.8百万欧姆-公分的高纯度水。23.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一使即将被导入该第一逆渗透模组(10)之供应水流保持在40至95℉温度范围内的步骤。24.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一使即将被导入该第一逆渗透模组(10)之供应水流保持在66至78℉温度范围内的步骤。25.如申请专利范围第11项所述之方法,包括一保持该供应水流之pH値在8至10范围内的步骤。26.如申请专利范围第1项所述之方法,包括一保持该第一渗透液之pH値在6至7范围内的步骤。27.如申请专利范围第1项所述之方法,包括量测该第一渗透液的pH値和将该pH値传达至该可程式逻辑控制器(34),并且为了回应该pH値,保持或改变该供应水流的pH値以保持该第一渗透液之pH値在6至7.5范围内。28.一种利用制成水之电阻率连续地生产高纯度制成水的控制方法,其可制造出电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内之高纯度制成水,该方法包括下列步骤:(a)提供一待纯化之供应水流;(b)提供一第一逆渗透模组(10),其具有第一高压侧(8)和第一低压侧(12),并且有一第一渗透液生成在该第一低压侧(12);(c)监控即将加到该第一逆渗透模组高压侧(8)之供应水流的pH値,并且将该pH値传达到一可程式逻辑控制器(34);(d)将该供应水流加到该第一逆渗透模组之高压侧(8);(e)提供一第二逆渗透模组(18),其具有第二高压侧(16)和第二低压侧(22),用以生产高纯化之制成水;(f)将该第一渗透液由该第一逆渗透模组(10)导入该第二逆渗透模组之高压侧(16);(g)连续地量测在该第二逆渗透模组之第二低压侧(22)所得到之制成水的电阻,用以提供电阻量测値;(h)将该些电阻量测値连续地传达至该可程式逻辑控制器(34);(i)在该可程式逻辑控制器(34)中,将该些电阻量测値与一先前的电阻量测値作比较,以提供一比较値;以及(j)回应于该比较値,保持或者升高/降低该供应水流的pH値,在调整pH値之前,对该供应水流做细微过滤(nanofiltration),或去硷化之步骤,并保持该供应水流的pH値在7~10之间,藉以生产具有电阻率在0.8至4百万欧姆-公分的高纯度水。29.一种连续地生产高纯度制成水的控制方法,其可制造出电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内之高纯度制成水,该方法包括下列步骤:(a)提供一待纯化之供应水流;(b)对该供应水流作至少一软化或细微过滤处理,以得到前处理水;(c)提供一第一逆渗透模组(10),其具有第一高压侧(8)和第一低压侧(12),并且有一第一渗透液生成在该第一低压侧(12):(d)监控该经过细微过滤或软化处理后而尚未加到该第一逆渗透模组高压侧(8)之供应水流的pH値,并且将该pH値传达至一可程式逻辑控制器(34);(e)保持该前处理水的pH値在8至10范围内;(f)将该前处理水加到该第一逆渗透模组之高压侧(8)以供应该第一渗透液;(g)监控该第一渗透液的pH値,并且将该pH値传达至该可程式逻辑控制器(34);(h)提供一第二逆渗透模组(18),其具有第二高压侧(16)和第二低压侧(22),用以生产高纯化之制成水;(i)在该可程式逻辑控制器(34)中,将该第一渗透液的pH値与该第一渗透液预设的pH値范围作比较;(j)回应于该第一渗透液的pH比较値,保持或者升高/降低该供应水流的pH値,藉以使该第一渗透液的pH値保持在上述预设的pH値范围内;以及(k)将该第一渗透液由该第一逆渗透模组(10)导入该第二逆渗透模组之高压侧(18),以生产具有期望电阻率的高纯度水。图式简单说明:第1图是本发明制程的示意图,显示用来制造高纯度水之双重逆渗透模组(double pass reverse osmosismodules)的pH値控制回路。第2图是一示意图,显示在逆渗透处理之前对供应水作前处理。第3图是一示意图,显示不同的pH値可以制造出相同电阻率的制成水。第4图显示利用本发明的改良制程,其根据制成水的电阻率改变供应水流的pH値,可连续地制造出具有电阻率约为2百万欧姆-公分的制成水。 |
