| 主权项 |
1.一种用于决定在电浆中一离子之出现或消失之系统(10),系包括:一离子源(12),其具有一大小及尺寸化之电浆腔(14)以产生一具有一离子出现之电浆,及一探针组件(30),其系被耦合至该离子源以侦测该电浆之该离子。2.如申请专利范围第1项之系统,其中该探针组件(30)系包括一探针元件(32),其系在该电浆腔(14)内延伸以自该电浆抽出该离子。3.如申请专利范围第1项之系统,其中该探针元件(32)系包括:一探针主体(36),其具有一被置放在该电浆腔(14)内之圆锥状尖点(34),及一聚焦构件(60),其被承载至该探针主体(36)且被设计成当被激发时可在该探针主体内产生一场。4.如申请专利范围第1项之系统,其中该探针组件(30)系包括:一探针元件(32),其系用于自该电浆抽出该离子之一或更多者,及一过滤器(40),其系被耦合至该探针元件(32)以将藉由该探针元件(32)自该电浆所抽出一或更多离子予以过滤。5.如申请专利范围第4项之系统,其中该过滤器(40)包括一Wien过滤器及一EXB过滤器中之至少一个。6.如申请专利范围第4项之系统,其中该过滤器(40)包括复数个不锈钢条以将在该过滤器(40)内之一磁场予以集中化。7.如申请专利范围第6项之系统,其中该复数个不锈钢条(46)系以不同电压加以偏压以产生在一通路(38)内一电位梯度及一均匀电场中之一个。8.如申请专利范围第4项之系统,其更进而包括用于在该过滤器内产生一电场及依据离子速度将一或更多离子隔开之机构。9.如申请专利范围第1项之系统,其更进而包括一耦合至该探针元件(32)之真空源以产生在该探针元件内之一选定压力条件而有助于自该电浆腔(14)该离子之抽出。10.如申请专利范围第1项之系统,其中该探针件(30)包括一具有一探针主体(36)之探针元件(32),该探针主体之一部件系设计成可延伸进入该电浆腔(14),及一组被耦合至该探针主体(36)之电极(62)以产生一场。11.如申请专利范围第1项之系统,其中该探针组件(30)包括一探针元件(32)以自该电浆抽出一或更多离子,一用于过滤该离子之过滤器,及一用于侦测该一或更多离子之控制器(50)。12.一种探针组件(30),其适合与一离子源(12)并合使用以侦测在该离子源(12)之一电浆腔(14)内电浆之一离子,系包括:一探针主体(36),其系设计成延伸至该离子源(12)之该电浆腔(14)中之至少部份内;一聚焦构件(60),其被耦合至该探针主体(36)以在该探针(36)内产生一选定场;及一过滤器(40),其被耦合至该探针主体(36)以将通过该探针主体(36)之离子过滤且自该电浆腔(14)抽出。13.如申请专利范围第12项之探针组件(30),其中该探针主体(36)包括一被大小及尺寸化之通路(38)以允许离子通过该通路,该主体(36)具有一延伸至该电浆腔(14)内之圆锥状终端部件。14.如申请专利范围第12项之探针组件(30),其中一组电极系被耦合至该探针主体(36)以产生一场。15.如申请专利范围第14项之探针组件(30),其中该电极(62)包括一四极聚焦构件(60)以在该探针主机(36)内产生一场而使用在该电浆腔(14)之该离子上。16.如申请专利范围第12项之探针组件(36),其中该过滤器包括一EXB过滤器。17.一种用于在一离子源(12)之一电浆腔(14)内所产生一电浆内之一离子之方法,系包括下列步骤:自该离子源(12)以一探针元件(32)抽出该离子;及侦测自该电浆腔(14)所抽出之该离子。18.如申请专利范围第17项之方法,其更进而包括在进行该侦测步骤之前,将自该离子源(12)所抽出一或更多离子过滤之步骤。19.如申请专利范围第17项之方法,其中该过滤器之步骤包括一变化一场的步骤以使得可根据离子速度一或更多离子过滤。20.如申请专利范围第17项之方法,其更进而包括缠绕一组电极(62)之步骤以产生一旋转四极场,该场可交替地将各方向离子聚焦。图式简单说明:图1为一离子源之概略方块图式描绘图,该离子源系根据本发明之剖示使用一用于侦测在一电浆中一离子之探针组件。图2为适用于自该离子源之电浆腔抽出一离子的一探针组件之概略图。图3为根据本发明剖示在图2中之该探针元件的探针本体之概略图。图4为当一电极被包装在如图3之探针元件内时该电极之立体图;及图5为如图1之该探针组件之过滤器之线段剖面图。 |
