氧化铟锡薄膜及其制备方法、含其的阵列基板、显示装置

摘要

一种氧化铟锡薄膜及其制备方法、包含该氧化铟锡薄膜的阵列基板和显示装置。其中该氧化铟锡薄膜的制备方法包括：步骤A：制备分立的氧化铟靶材和锡靶材；以及步骤B：在同一沉积腔室中，由所述氧化铟靶材和锡靶材分别产生氧化铟粒子和锡粒子，该氧化铟粒子和锡粒子在基体上共同形成氧化铟锡薄膜。本发明的制备方法通过制备分立的氧化铟靶材和锡靶材，避免靶材重复制备，溅射工艺不用重新开始(如中途不用重新打开真空腔)；相比于传统制备方法的研磨、烧结制备不同锡含量靶材的单靶材镀膜的方式，有效缩短了开发周期，且薄膜中锡含量的控制更加便捷，节省了开发成本；可应用于各种显示装置的制备。

主权项

一种氧化铟锡薄膜的制备方法，其特征在于，包括：步骤A：制备分立的氧化铟靶材和锡靶材；以及步骤B：在同一沉积腔室中，由所述氧化铟靶材和锡靶材分别产生氧化铟粒子和锡粒子，该氧化铟粒子和锡粒子在基体上形成氧化铟锡薄膜。