MASK BLANK TRANSFER MASK AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSFER MASK

摘要

EB 결함 수정을 바람직하게 적용할 수 있고, 또한 차광막의 박막화를 가능하게 하는 마스크 블랭크를 제공한다. ArF 노광광이 적용되는 전사용 마스크를 작성하기 위해서 이용되며, 투광성 기판(1) 상에 차광막(2)을 갖는 마스크 블랭크(10)로서, 차광막(2)은, 천이 금속 및 규소에 산소 및 질소로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 원소를 더 함유하는 재료를 주성분으로 한다. 이 차광막은, 불소를 함유하는 물질에 대한 하전 입자의 조사를 받지 않은 상태에서의 에칭 레이트가, 불소를 함유하는 물질에 대한 하전 입자의 조사를 받은 상태에서의 에칭 레이트에 대하여 적어도 에칭 선택성을 확보할 수 있을 정도로 느리다.