发明名称 用于电化学制程反应室之电动起重装置
摘要 本发明提供一种电化学沉积系统,此系统至少包括一种夹持装置,藉以配合用来选择性地抓住和放松电化学制程室。此系统可包括与夹持装置相结合的举高/放低机构,藉以配合用来当夹持装置在制程室的所在高度时自动停止放低夹持装置,以及包括与夹持装置相结合的转动机构,藉以配合用来当夹持装置对齐制程室的位置或交换制程室的位置时自动停止转动夹持装置。此配合用来选择性地抓住和放松欲被举起之物件的夹持装置可包括在夹持装置之转动部份和夹持部份间的凸轮/从动轮的结合元件。为使夹持装置得以抓紧制程室,可转动夹持装置之转动部份,藉以缩回夹持装置之夹持部份而使夹持部份接近制程室。
申请公布号 TW546419 申请公布日期 2003.08.11
申请号 TW090119425 申请日期 2001.08.08
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 提摩西J 富兰克林
分类号 C25D5/00 主分类号 C25D5/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种夹持装置,该夹持装置系配合用来选墿性地抓住和放松一欲被举起的物件,且该夹持装置至少包括:一装载板;复数个爪指元件,其中该些爪指元件系以可滑动的方式与该装载板结合,因而该些爪指元件可以向外延伸和向内退缩;一可转动板,该可转动板系以可转动的方式与该装载板结合,其中该可转动板有复数个凹槽,而每一该些凹槽的位置系靠近于该些爪指元件之一爪指元件,且每一该些凹槽有一外端和一内端,每一该些凹槽的位置使每一该些凹槽可以向该可转动板转动的方向延伸;以及复数个插梢,其中该些插梢系以可滑动的方式从该些凹槽之一凹槽中延伸出来且与该些爪指元件之一爪指元件结合。2.如申请专利范围第1项所述之夹持装置,其中该些爪指元件系配合用来抓住位于该夹持装置下方之一物件,而该可转动板更包括一对装载托座,该对装载托座并配合用来结合由一高架起吊装置延伸出来的一对吊带。3.如申请专利范围第1项所述之夹持装置,其中该可转动板更包括由该可转动板之转动方向延伸出来的一转动控制凹槽,而该对托座托座之一托座托座系以可滑动的方式与该转动控制凹槽结合。4.如申请专利范围第1项所述之夹持装置,其更包括在该转动控制凹槽之底部的一低凹区域,而与该转动控制凹槽以可滑动的方式结合的该托座托座系配合来为该低凹区域所留置。5.如申请专利范围第4项所述之夹持装置,其更包括一抗微粒涂布,而该抗微粒涂布系形成在任何会发生滑动接触的表面。6.如申请专利范围第1项所述之夹持装置,其更包括一防污板,而该防污板系与该装载板结合,且该防污板之尺寸系对应于该欲被举起的物件之一上方表面。7.一种电化学沉积系统,该电化学沉积系统至少包括:一第一电化学制程室的位置;一高架起吊装置,其中该高架起吊装置系位于该第一电化学制程室的位置之上方,且该高架起吊装置至少包括如申请专利范围第2项所述之夹持装置;一举高∕放低马达,藉以配合用来举高和放低该夹持装置;以及一对可缩回的吊带,其中该对吊带系与该马达和该夹持装置结合。8.如申请专利范围第7项所述之电化学沉积系统,其更包括:一交换电化学制程室的位置;一可转动的支持臂,其中该对吊带可自该可转动的支持臂延伸和退缩;以及一转动马达,藉以配合用来转动位于该第一电化学制程室的位置之上方和该交换电化学制程室的位置之上方之间的该可转动的支持臂。9.如申请专利范围第7项所述之电化学沉积系统,其更包括:复数个开关,其中该些开关系结合于该举高∕放低马达,且配合用来当该夹持装置到达该第一电化学制程室的位置之一所在高度时自动停止该夹持装置,和当该夹持装置位于一被升高的转动位置且该对可缩回的吊带刚刚收缩时停止该夹持装置。10.如申请专利范围第8项所述之电化学沉积系统,其更包括:复数个开关,其中该些开关系结合于该转动马达,且配合用来当该夹持装置到达该第一电化学制程室的位置之上方,和当该夹持装置到达该交换电化学制程室的位置之上方时自动停止该夹持装置。11.如申请专利范围第10项所述之电化学沉积系统,其更包括:复数个开关,其中该些开关系结合于该举高∕放低马达,且配合用来当该夹持装置到达该第一电化学制程室的位置之一所在高度时自动停止该夹持装置,和当该夹持装置位于一被升高的转动位置且该对可缩回的吊带刚刚收缩时停止该夹持装置。12.如申请专利范围第8项所述之电化学沉积系统,其更包括一锁定机构,藉以确定同一时间只有该举高∕放低马达和该转动马达二者之一在运作。13.如申请专利范围第11项所述之电化学沉积系统,其更包括一锁定机构,藉以确定同一时间只有该举高∕放低马达和该转动马达二者之一在运作。14.如申请专利范围第8项所述之电化学沉积系统,其更包括一第二电化学制程室的位置,且配合用来转动该可转动的支持臂的该转动马达,更配合用来转动该可转动的支持臂至该第二电化学制程室的位置之上方。15.如申请专利范围第14项所述之电化学沉积系统,其更包括:复数个开关,其中该些开关系结合于该转动马达,且配合用来当该夹持装置到达该第一电化学制程室的位置之上方、该第二电化学制程室的位置之上方或该交换电化学制程室的位置时自动停止该夹持装置。16.如申请专利范围第14项所述之电化学沉积系统,其更包括一机构,藉以配合用来防止多余的转动。17.一种电化学沉积系统,该电化学沉积系统至少包括:一夹持装置,藉以配合用来选择性地抓住和放松一电化学制程室;一举高∕放低机构,其中该举高∕放低机构系其该夹持装置结合,且配合用来当该夹持装置在一制程室的所在高度时自动停止放低该夹持装置;以及一转动机构,其中该转动机构系与该夹持装置结合,且配合用来当该夹持装置与一制程室的位置对齐或与一交换制程室的位置对齐时,自动停止转动该夹持装置。18.如申请专利范围第17项所述之电化学沉积系统,其中该举高∕放低机构系配合用来当该夹持装置在一转动的所在高度时,自动停止举高该夹持装置。19.如申请专利范围第17项所述之电化学沉积系统,其中该夹持装置至少包括一抓持机构,而该抓持机构系配合用来选择性地抓住和放松一制程室,且配合用来锁定于一抓持位置。20.如申请专利范围第17项所述之电化学沉积系统,其更包括一手持控制器,而该手持控制器系配合用来使一操作员可以遥控该举高∕放低机构和该转动机构的操作。21.一种装卸电化学制程室的方法,该装卸电化学制程室的方法至少包括:转动一夹持装置至对齐一制程室的上方;放低该夹持装置至一制程室的所在高度;使用该夹持装置来抓紧一制程室;锁住该夹持装置于该制程室;以及举高该夹持装置和与该夹持装置一起锁住的该制程室;其中该转动、该放低和该举高系经由遥控而产生。22.如申请专利范围第21项所述之方法,其更包括在放低和举高该夹持装置时,防止该夹持装置发生转动。23.如申请专利范围第21项所述之方法,其更包括当该夹持装置在该制程室的所在高度时,自动停止放低该夹持装置。24.如申请专利范围第23项所述之方法,其更包括当该夹持装置在一转动的所在高度时,自动停止举高该夹持装置,而用来放低该夹持装置的机构则大幅度地缩回。25.如申请专利范围第21项所述之方法,其更包括:经由遥控转动被举高的该夹持装置至一交换制程室的位置。26.如申请专利范围第25项所述之方法,其更包括当该夹持装置对齐该交换制程室的位置之上时,自动停止转动被举高的该夹持装置。27.如申请专利范围第21项所述之方法,其更包括当该夹持装置对齐该制程室的位置之上方时,自动停止转动被举高的该夹持装置。28.如申请专利范围第26项所述之方法,其更包括当该夹持装置对齐该交换制程室的位置之上方时,自动停止转动该夹持装置。29.如申请专利范围第21项所述之方法,其中该使用该夹持装置来抓紧该制程室的步骤至少包括转动该夹持装置之一部份,藉以缩回该夹持装置之一夹持部份。30.如申请专利范围第29项所述之方法,其中该转动该夹持装置之一部份的步骤启动在该转动部份和该夹持部份间的一凸轮∕从动轮的结合元件,藉以缩回该夹持部份。31.如申请专利范围第30项所述之方法,其中该夹持装置的举高和放低系藉由与该夹持装置之该转动部份结合的复数个吊带,而该转动该夹持装置之一部份的步骤更至少包括在转动该夹持装置之该部份之前,减少该些吊带之一吊带所受到的一负重。32.如申请专利范围第31项所述之方法,其中该减少该些吊带之一吊带所受到的该负重包括向下拉该吊带,藉以使另一吊带承载该夹持装置之一较大部分的重量,而该锁住该夹持装置于该制程室的步骤至少包括在该吊带被移至一置留区之后,放松加在该吊带之向下力。图式简单说明:第1A图和第1B图为本发明之电化学沉积系统的侧视示意图,其中分别绘示制程室的夹持装置对齐制程室的位置且位于转动的所在高度,和制程室的夹持装置对齐交换制程室的位置且位于制程室的所在高度;第2图为本发明之电化学沉积系统的俯视平面示意图,其中绘示夹持装置的支持臂位于第一制程室的位置;第3A图和第3B图为分别绘示夹持装置的俯视透视示意图和仰视透视示意图,其中夹持装置的夹持部分系位于松开的位置;以及第3C图为绘示第3A图和第3B图之夹持装置的俯视透视示意图和仰视透视示意图,其中夹持装置的夹持部分系位于夹闭的位置。
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