发明名称 具有减少寄生效果之磁阻随机存取记忆体交叉点阵列
摘要 本发明揭示一种架构用于具有减少寄生效果之磁阻随机存取记忆体(MRAM)存储单元300。与MRAM装置之字线310及位元线320平行之金属之额外长度走向提供一写入字线345及一写入位元线355,并自字线与位元线以介电层340及350分隔,该介电层提供写入电流自磁堆叠之电隔离。在写入操作时,字线及位元线所见之寄生电容,电感及电阻可由写入字线345及位元线355之电隔离而降低。字线310及位元线320保持为标准MRAM交叉点阵列架构,及用于MRAM储存单元之内容之读取。
申请公布号 TW200303028 申请公布日期 2003.08.16
申请号 TW092101955 申请日期 2003.01.29
申请人 亿恒科技公司 发明人 迪艾特马 勾葛;汉斯 翰尼瑞奇 维曼
分类号 G11C7/02 主分类号 G11C7/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 德国