使用双波长形成自动对准图案之方法

摘要

本发明揭露一种在次微影尺度图案化细微结构之积体电路制造过程。该制造过程包括接续地曝光具有光硷产生剂和催化量的水之芳基烷氧基矽烷的薄膜。该薄膜涂层在设在基材上之知的亲脂性光阻层上方，并以第一及第二微影波长之辐射来曝照。该第一微影波长系短于该第二微影波长。对第一微影波长之曝光造成在该光阻层中形成一个自动对准光罩。