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发明名称
电子光束曝光装置
摘要
本发明系提供一种具实用性的邻近曝光方式的电子光束曝光装置。该电子光束曝光装置系具有:邻近曝光方式的电子光学柱2、及真空室1者,载置台49系在保持晶圆100的部分具有基准载置面54A至54D,电子光束曝光装置系具有用以检测基准载置面及所载置的晶圆之基准载置面的部分高度之高度检测器92。
申请公布号
TW200303572
申请公布日期
2003.09.01
申请号
TW091132771
申请日期
2002.11.07
申请人
东京精密股份有限公司;立普股份有限公司
发明人
岛津 信生;远藤 章宏;伊势 彻;福井 丰治;藤田太一;柳 良明;津田 征夫;津田 英明;二瓶 幸一
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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