发明名称 含有改良之光引发剂之光可成像组成物
摘要 本发明提出一种负片型光可成像组成物,其包含A)以A)加B)之总重计介于约30及约80重量百分比间之黏合剂聚合物,其具有足以使该光可成像组成物于硷水溶液中显影之酸宫能基,B)以A)加B)之总重计介于约20及约70重量百分比间之可加成聚合非气态α,β-烯键不饱和化合物,其可藉自由基引发之链延伸加成聚合以形成高聚物,B)之α,β-烯键不饱和部分有至少约50莫耳百分比系为甲基丙烯酸部分,及C)以A)加 B)之总重计介于约0.1及约20重量百分比间之光引发剂化学系统,该光引发剂化学系统包含相对于A)加B)之总重介于约.005及约3重量百分比间之三苯膦及相对于A)加B)之总重介于约.005及约2重量百分比间之n-苯基甘胺酸。
申请公布号 TW562996 申请公布日期 2003.11.21
申请号 TW088104038 申请日期 1999.03.16
申请人 日合马顿股份有限公司 发明人 罗伯特 巴尔;丹尼尔 隆迪;高英治;村上滋
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种负片型光可成像组成物,其包含A)以A)加B)之总重计介于30与80重量百分比间之黏合剂聚合物,其具有足以使该光可成像组成物于硷水溶液中显影之酸官能基,B)以A)加B)之总重计介于20与70重量百分比间之可加成聚合非气态,-烯键不饱和化合物,其可藉自由基引发之链延伸加成聚合以形成高聚物,B)之,-烯键不饱和部分有至少50莫耳百分比系为甲基丙烯酸部分,及C)以A)加B)之总重计介于0.1及20重量百分比间之光引发剂化学系统,其改良处为该光引发剂化学系统包含相对于A)加B)之总重介于0.005与3重量百分比间之三苯膦及相对于A)加B)之总重介于0.005与2重量百分比间之n-苯基甘胺酸。2.如申请专利范围第1项之组成物,其另包含以A)加B)之总重计介于0.1与1.0重量百分比间之成色剂。3.如申请专利范围第1项之组成物,其另包含以A)加B)之总重计介于0.5与6重量百分比间之咪唑二聚物。
地址 日本