| 发明名称 | 半导体制造中用来改进控制的自调适取样方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种方法，该方法包含：在至少一个处理步骤(105)中，对工件上所施行的处理，取样至少一个特性参数(110)；以及，使用自适应取样处理模型(130)来模型化该至少一个取样的特性参数，而基于情况信息、上游事件和行程至行程控制器要求的至少其中之一来变化取样，将取样处理为动态控制环境的一合成部份。该方法也包含：应用该自适应取样处理模型(130)，来修正(135，155，160)在至少一个处理步骤(105)中所施行的处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1459052A | 申请公布日期 | 2003.11.26 |
| 申请号 | CN01815736.X | 申请日期 | 2001.09.07 |
| 申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | A·J·帕萨迪恩;A·J·托普拉克;M·L·米勒 |
| 分类号 | G05B13/02 | 主分类号 | G05B13/02 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊;程伟 |
| 主权项 | 1.一种方法，包含：在至少一个处理步骤(105)中，对工件上所施行的处理，取样(105)至少一个特性参数；使用自适应取样处理模型(130)来模型化该至少一个取样的特性参数，而基于情况信息、上游事件和行程至行程控制器要求的至少其中之一来变化取样，将取样处理为动态控制环境的合成部份；以及应用该自适应取样处理模型(130)，来修正(135，155，160)在该至少一个处理步骤(105)中所施行的处理。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||