微影装置,对齐方法及元件制造方法

摘要

本发明揭示一种对齐方法，其系将有一大Z形间隔(如在MEMS或MOEMS的制造中)的各层对齐，因而使用一对齐系统，其用垂直入射的辐射来照射参考标记。该对齐系统有一照明系统，其在基板侧上系远心的。