制程参数决定方法、以及决定制程参数与设计规则中至少一者之方法

摘要

本发明系关于半导体积体电路之制造中所使用之制程参数决定方法，包含：依据制程参数资讯修正对应于半导体积体电路之设计配置图之第一图案，以获得第二图案之工序；利用制程参数资讯，预测对应于第二图案且预备以蚀刻制程形成于半导体晶圆上之第三图案之工序；藉由比数第三图案与第一图案以获得评价值之工序；判断评价值是否满足特定条件之工序；及于判断评价值未满足特定条件时，变更制程参数资讯之工序。