发明名称 显示装置
摘要 本发明系提供一种能实现将缩小P-MOSTFT和N-MOSTFT之空间并高积体化之C-MOSp-SiTFT予以具备于驱动电路等之显示装置之相关技术,其作为用以制作具备于显示装置的C-MOSp-SiTFT之曝光光罩系采用使用中间色调光罩之自动对准C-MOS制程。依据使用中间色调光罩之措施,在P-MOS部25和N-MOS部26之结合部份的对位即不须要,并能减少光学步骤数而进行高积体化。
申请公布号 TW200400380 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW092106314 申请日期 2003.03.21
申请人 日立显示器股份有限公司 发明人 园田大介;金子寿辉
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本