| 摘要 |
用于在基材上产生具图案的图像之辐射敏化组成物，其包含：a）第一光酸产生剂（PAG）化合物P1，其包含一或多种之结构（A）化合物；b）第二光酸产生剂化合物P2，其包含一或多种之结构（B）化合物；c）聚合物组份，包含硷可溶之树脂组份，其硷可溶性系藉由酸敏化部份之存在而抑制，且其硷可溶性系藉由以酸处理及选择性之加热而回复；其中，该聚合物包含一或多种之包含单体单元（C）之聚合物；及d）溶剂，092117274p01.bmp其中，R^1及R^2每一者个别系C1–C12氟烷基，或R^1及R^2一起与N结合形成（F2C）yN环，其中，y＝4–12；R^3、R^4及R^5每一者个别系选自未经取代之芳基、烷基或α–酮基甲基及以酸敏基取代之此等基，或R^3及R^4与S原子一起形成环烷基环；R^6至R^11及R^6’至–R^11’每一者个别系选自支化或线性之烷基、烷氧基、卤素、氢、OCO2G、OCH2CO2G或OG，其中，G＝酸敏基；092117274p02.bmp其中，每一R^12系个别选自线性、环状或支化之C1–C8氟烷基、经取代或未经取代之苯基、经取代或未经取代之基、C6–C12环状或脂环状之烃，或线性、环状或支化之C1–C8烷基；092117274p03.bmp其中，R^13系选自H、C1–C4较低级烷基、CN，或CH2CO2R^20；R^14及R^15每一者个别系选自H、线性或支化之C1–C4烷基，或卤素；R^16系H，或支化或线性之C1–C4烷基；R^17系选自经取代或未经取代之苯基、经取代或未经取代之线性、支化或环状之C1–C20烷基，选择性含有醚或酯基，经取代或未经取之苯基伸烷基，或经取代或未经取代之C6–C20环状伸烷基；R^18及R^19系个别选自H、线性或支化或环状之C1–C4烷基，或C7–C14脂环基；R^20系选自C1–C4之支化、线性或环状之烷基、经取代或未经取代之苯基，或C7–C14脂环基。 |
