发明名称 半导体晶圆的制造方法
摘要 本发明之解决手段为,在对形成电路于藉由间隔线所区隔的区域上之半导体晶圆W,分割为各个具有个别电路的半导体晶片的情况下,由隔着因刺激而使黏着力降低的黏着层,黏着半导体晶圆W的表面于支撑板13上,并曝光半导体晶圆的内面10,然后研磨与支撑板13呈一体的半导体晶圆的内面10,于研磨制程结束后,在维持与支撑板呈一体的半导体晶圆W的内面朝上的状态下,进行切割来分割半导体晶片C,并施加刺激于黏着层上使黏着力降低,而从支撑板13当中移出半导体晶片C。因为半导体晶圆及半导体晶片经常支撑于支撑板上,因此可防止破损、变形的产生。
申请公布号 TW200402842 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092108248 申请日期 2003.04.10
申请人 积水化学工业股份有限公司;迪思科股份有限公司 发明人 福冈正辉;井宗宏;林聪史;大山康彦;檀上滋;北村政彦;矢兴一
分类号 H01L21/78 主分类号 H01L21/78
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本