发明名称 生产设备及使用生产设备以生产发光装置之方法
摘要 一种占地面积小的生产设备及用此设备生产发光装置的方法。生产发光装置的设备包含装载工作室、形成发光材料薄膜的工作室、形成导电材料薄膜的工作室、形成绝缘材料薄膜的工作室、以及卸载工作室,其中,形成发光材料薄膜的工作室是用液体喷射方法形成发光材料薄膜的工作室,形成导电材料薄膜的工作室是用溅射方法形成导电材料薄膜的工作室,而形成绝缘材料薄膜的工作室是用溅射方法来形成绝缘材料薄膜的工作室,且其中,在所有装载工作室、形成发光材料薄膜的工作室、形成导电材料薄膜的工作室、形成绝缘材料薄膜的工作室、以及卸载工作室中,待要处理的基底被支撑成待要处理的基底的膜形成表面与重力方向所对着的角度在0-30度内。
申请公布号 TW200403951 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW092118390 申请日期 2003.07.04
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 山崎舜平;滨田崇;濑尾哲史
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本