用以校正在紫外线微影术中的本质双折射之方法及系统

摘要

提供用以改善校正本质双折射之系统及方法。二对光学元件校正光学材料之本质双折射。供该组光学元件用之设计准则的组合，包含折射力形式，本质双折射符号，及晶轴旋转，系被使用以校正本质双折射。