| 摘要 |
本发明提供一种电子束曝光方法及装置，其系使电子放射源(14)所放射之电子束(22)通过设于模版遮罩(18)之孔口后导引至感光试料(12)，并将其曝光之方法，其中系包括：将电子束于电子束到达模版遮罩孔口前置于以低速行进之低电场强度下，然后，将通过上述模版遮罩之孔口之电子束置于以高速行进之高电场强度下。电子束曝光装置系包括：电子放射源；具有容许电子放射源所放射之电子束通过之孔口的模版遮罩；用以支撑曝光试样之支承台(16)；以及，用以将电子束置于低电场强度下之低电场产生机构及用以置于高电场强度下之高电场产生机构。 |
