扫描曝光装置及方法

摘要

一种扫描曝光装置包含一照射光学系统用以使用弧形照射光照射蔽罩上之一图案；一投影光学系统用以投射由照射光学系统所照射之蔽罩上之图案于一板上；一蔽罩平台用以扫描蔽罩；一板平台用以扫描该板，扫描曝光装置对投影光学系统同步相对扫描蔽罩平台及板平台；一蔽罩支持机构用以支持蔽罩之周边；及一蔽罩平台倾斜机构，用以安排由弧形照射光所照射之一区域中之图案于投影光学系统之目标表面方焦平面中，其中，蔽罩由于其本身重量引起自受支持之周边变形。