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发明名称
反射镜装置,曝光装置及装置制造方法
摘要
一种反射镜装置,用于藉由反射导引曝光光线执行曝光处理之曝光装置的反射光学系统中,具有可反射曝光光线的反射表面之镜子,及设置在远离镜子外表面的位置之辐射冷却用辐射板。辐射板被设置以确保入射在镜子的反射表面及自镜子的反射表面反射之曝光光线用通道区。另外,各自辐射板由流经冷却管的冷却液体控温。如此可抑制用于曝光装置的反射光学系统之镜子的温度上升,及可保持镜子反射表面的表面形状准确性。
申请公布号
TW200403543
申请公布日期
2004.03.01
申请号
TW092116860
申请日期
2003.06.20
申请人
佳能股份有限公司
发明人
宫岛义一
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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