| 摘要 |
本发明系有关一种化学增幅光阻材料用之光酸产生剂，其特征系以下述一般式（1）表示，092106569p01.bmp（R为H、F、C1、NO2、烷基或烷氧基，n为0或1，m为1或2，r为0～4，r’为0～5，k为0～4，G’及G”系分别为硫原子或–CH＝CH–，但是不同时为硫原子）。本发明之O–芳基磺醯化合物之光酸产生剂及使用该光酸产生剂之化学增幅光阻材料系具有优异之解像性、焦点容许度优异，即使PED经过长时间，其线宽变动、形状劣化少，显影后之图案轮廓形状优异，适用于微细加工之高解像性，特别是在远紫外光微影上可发挥很大功能。 |
