| 摘要 |
突出于一闸极电极构造之顶部表面上方之一突出间隔物在用以形成自动对准接点之蚀刻制程期间，对闸极电极之曝光提供加强式之抗阻。突出间隔物可使用一非结晶碳之牺牲层，作为形成图案之闸极电极构造之顶部层而形成。沿着闸极电极构造，包含沿着牺牲非结晶碳层，形成电介间隔物。电介间隔物实质上延伸至非结晶碳层之顶部。然后移除非结晶碳层，使得剩下之闸极构造包含具一突起部位之电介间隔物，该突出部位突出于剩下闸极构造之顶部表面上方。一氮化层可形成在闸极构造之上。这种构造防止闸极电极在自动对准接点形成期间曝光，且一旦充填接点开口时，防止短路。 |
