| 主权项 |
1.一种组立式防磁盖之结构,该防磁盖为由下盖体、上盖体组立而成,利用上盖体罩覆于下盖体外,形成紧密结合之防磁盖,其特征在于:该下盖体于侧板外设有嵌扣柱,而上盖体则于周缘立设有复数扣合件及抵持件,且各扣合件上为设有嵌扣孔,抵持件则呈弯弧状,俾当上盖体罩盖于下盖体时,则藉由上盖体扣合件之嵌扣孔与下盖体之嵌扣柱嵌扣结合,及抵持件抵贴夹持于下盖体之侧板上,形成嵌扣、夹持之双重定位功效。2.如申请专利范围第1项所述之组立式防磁盖之结构,其中该上盖体于各扣合件、各抵持件中形成容置空间,并于容置间中设有弹性抵靠件及复数圆孔。3.如申请专利范围第1项所述之组立式防磁盖之结构,其中该上盖体之抵持件为呈朝内部弯弧状,具有塑性夹持之功用。4.如申请专利范围第1项所述之组立式防磁盖之结构,其中该下壳体于各侧板中为形成内部空间,且内部空间中为设有检测槽及复数穿孔。5.如申请专利范围第1项所述之组立式防磁盖之结构,其中该上盖体周缘设置之复数嵌扣件、抵持件之排列,为于上盖体周缘呈相邻分隔方式排列。6.如申请专利范围第1项所述之组立式防磁盖之结构,其中该上盖体周缘设置之复数嵌扣件、抵持件之排列,嵌扣件、抵持件呈交错间隔方式排列,使嵌扣件、抵持件相对的布设于上盖体周缘。图式简单说明:第一图 系为本创作之立体外观图。第二图 系为本创作之立体分解图。第三图 系为本创作之背面立体分解图。第四图 系为本创作上盖体及下盖体组立前之局部剖面图。第五图 系为本创作上盖体及下盖体组立后之局部剖面图。第六图 系为本创作之侧视剖面图。第七图 系为本创作上盖体与下盖体分离前之剖面图。第八图 系为本创作上盖体与下盖体分离后之剖面图。第九图 系为习用防磁盖立体外观图。第十图 系为习用防磁盖立体分解图。 |
