发明名称 离子水产生装置
摘要 本创作提供一种离子水产生装置,其包含有:一装水本体,该本体上系设有一开口,而使该本体内部自然形成一储水空间,而可用以容纳自来水;一盖体,系对应于该本体之开口形状,而可用以封盖该本体之开口,并于该盖体内缘处系接设有一电流;其特征在于:该盖体之内缘表面上系涂布有一具有超导体特性之导电高分子,其中该高分子主要系由环氧树脂以及一触媒所相互反应而成,以使该盖体内缘表面具有超导体之特性,并藉由超导体之特性,因此当该电流流经于该盖体之内缘表面时,该电流将会快速通过于该盖体之内缘表面,藉此使该电流得以释放出电离子,此时位于该本体储水空间内之自来水,即得以吸收由该电流所释放出之电离子,使自来水中之电离子含量持续增加而得以形成为离子水。
申请公布号 TWM240444 申请公布日期 2004.08.11
申请号 TW092201251 申请日期 2003.01.23
申请人 施妙学 发明人 施妙学
分类号 C02F1/461 主分类号 C02F1/461
代理机构 代理人 刘緖伦 台中市南屯区永春东一路五四九号三楼
主权项 1.一种离子水产生装置,其包含有:一装水本体,该装水本体上系设有一开口,而使该装水本体内部自然形成一储水空间,而可用以容纳自来水;一盖体,系对应于该装水本体之开口形状,而可用以封盖该装水本体之开口,并于该盖体内缘处系接设有一电流;其特征在于:该盖体之内缘表面上系涂布有一具有超导体特性之导电高分子,其中该高分子主要系由环氧树脂以及一触媒所相互反应而成,以使该盖体内缘表面具有超导体之特性,并藉由超导体之特性,因此当该电流流经于该盖体之内缘表面时,该电流将会快速通过于该盖体之内缘表面,藉此使该电流得以释放出电离子,此时位于该装水本体储水空间内之自来水,即得以吸收由该电流所释放出之电离子,使自来水中之电离子含量持续增加而得以形成为离子水。2.依据申请专利范围第1项所述之离子水产生装置,系可运用至一般之饮水容器上。3.依据申请专利范围第1项所述之离子水产生装置,系可运用至建筑物之水塔上。4.依据申请专利范围第1项所述之离子水产生装置,系可运用至饮水机上。图式简单说明:第一图系本创作一较佳实施例之示意图,系用以显示本创作运用至一般饮水容器上之状态。第二图系本创作另一较佳实施例之示意图,系用以显示本创作运用至水塔上之状态。第三图系本创作再一较佳实施例之示意图,系用以显示本创作运用至饮水机上时之状态。
地址 台中市北区益华街七十五号