| 主权项 |
1.一种微影投射装置,包括:一辐射系统,其包括用以提供一辐射投射光束的多个反射光学元件,该等反射光学元件包括一用以在一第二多面体反射镜上产生复数个影像源的第一多面体反射镜;一支撑结构,用以支撑图样化构件,该图样化构件的作用是根据所需的图样来图样化该投射光束;一基板台面,用以固定该基板;及一投射系统,用来把被图样化的光束投射到该基板的一目标部分上,其特征为:该微影投射装置包括分段镜面遮挡构件,该分段镜面遮挡构件系用来选择性遮挡该第一多面体反射镜与该第二多面体反射镜之一的一或多个分段镜面,并且该分段镜面遮挡构件包括可选择性插入于该投射光束内的至少一局部不透明遮挡叶片,该局部不透明遮挡叶片具有不透明与透明区域的规则性周期结构,且具有足够大之间距以促使消略该投射光束的绕射,并实质上遮挡整个分段镜面。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该间距相对于该影像源甚小。3.如申请专利范围第2项之装置,其中该间距在从1mm到500nm的范围内。4.如申请专利范围前述诸项中任一项之装置,其中该等分段镜面配置成行且该局部不透明叶片包括复数个局部不透明指状物,该等指状物可选择性地沿着个别分段镜面线扩张。5.如申请专利范围第1,2或3项之装置,其中该等分段镜面遮挡构件配置在靠近第二多面体反射镜处。6.如申请专利范围第1,2或3项之装置,其中该分段镜面遮挡构件进一步包括实心遮挡装置,该实心遮档装置可选择性插入于该投射光束内以几乎完全遮挡该等分段镜面中的至少一个分段镜面。7.如申请专利范围第1,2或3项之装置,其中该分段镜面遮挡构件进一步包括调整装置,该调整装置用来调整被局部不透明遮挡叶片遮暗之分段镜面面积的比率。8.如申请专利范围第7项之装置,其中该分段镜面遮挡构件有复数个可选择性插入于该投射光束内的局部不透明遮挡叶片。9.一种微影投射装置,包括:一辐射系统,其包括一用以提供一辐射投射光束的多个反射光学元件,该等反射光学元件包括一用以在一第二多面体反射镜上产生复数个影像源的第一多面体反射镜;一支撑结构,用以支撑图样化构件,该图样化构件的作用是根据所需的图样来图样化该投射光束;一基板台面,用以固定该基板;及一投射系统,用来把被图样化的光束投射到该基板的一目标部分上,其特征为:该微影投射装置包括分段镜面遮挡构件,该分段镜面遮挡构件系用来选择性遮挡该第一多面体反射镜的一或多个分段镜面之全部。10.如申请专利范围第9项之装置,其中该第一多面体反射镜的一群相邻分段镜面被配置以导引辐射到该第二多面体反射镜的一组分段镜面,该第二多面体反射镜的该组分段镜面被以一种组态配置,该组态从下列组态群组中选择:实质上呈环形的组态;多极性组态;大致呈圆形的组态;及与上述组态互补的组态。11.如申请专利范围第9或10项之装置,其中接近该第一多面体反射镜周边处的分段镜面被配置成导引辐射到该第二多面体反射镜更中央部分处的分段镜面。12.一种装置制造方法,包括下列步骤:提供基板,该基板至少局部被一辐射敏感材料层覆盖;使用辐射系统提供辐射投射光束,该辐射系统包括多个反射光学元件以提供辐射投射光束,该等反射光学元件包括一用来在一第二多面体反射镜上产生复数个影像源之第一多面体反射镜;使用图样化构件,以便将一图样赋予投射光束的横断面内;将被图样化之辐射光束投射到该辐射敏感材料层的目标部分上,其特征为:该方法藉着选择性将至少一局部不透明遮挡叶片插入于该投射光束内而选择性地遮挡该第一多面体反射镜与该第二多面体反射镜之一的一或多个分段镜面,该局部不透明遮挡叶片具有透明与不透明区域的规则性周期结构,且具有足够大之间距以促使消略该投射光束的绕射,且并实质上遮挡整个分段镜面。图式简单说明:图1显示根据本发明一种具体实例的微影投射装置;图2显示图1之装置的照明系统中之某些构成元件;图3到6显示本发明第一种具体实例在各种位置之分段镜面遮挡构件;图7显示使用于本发明第一种具体实例中的局部不透明遮挡叶片;图8显示本发明第二种具体实例之照明系统的某些构成元件;且图9显示本发明第二种具体实例之场多面体反射镜。 |
