发明名称 真空容器之盘阀装置
摘要 一种真空容器之盘阀装置,包含:一座体、一设在该座体内之塞体单元以及一组装在该座体之一侧的驱动机构,该座体具有一围绕成具有L1直径之环壁、一设在此环壁顶侧之顶壁,以及一位于此环壁底侧且之底壁,并界定形成一容室,该环壁具有一与此容室连通且具有L2孔径,用以与所述真空容器连接之第一连接管,而该底壁具有一与此容室连通且具有L3孔径之第二连接管,该塞体单元系可移动L4距离而用以反覆封闭该第二连接管,该驱动机构则是组装在该座体之一侧且带动该盘体移动,而其中L1/L2=√2、L3/L2=1且L4/L2=1/4。
申请公布号 TWM255913 申请公布日期 2005.01.21
申请号 TW093200113 申请日期 2004.01.05
申请人 和立联合科技股份有限公司 发明人 杨启昌
分类号 F16K5/00 主分类号 F16K5/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种真空容器之盘阀装置,可与一预定真空容器组接以便使该真空容器形成真空状态,该盘阀装置包含:一座体,具有一围绕成具有L1直径之环壁、一设在此环壁顶侧之顶壁,以及一位于此环壁底侧且之底壁,并界定形成一容室,该环壁具有一与此容室连通且具有L2孔径,用以与所述真空容器连接之第一连接管,而该底壁具有一与此容室连通且具有L3孔径之第二连接管;一设在该座体之容室内且可移动L4距离,用以反覆封闭该第二连接管之塞体单元;及一组装在该座体之一侧且用以带动该盘体移动之驱动机构;其特征在于:L1/L2=√2、L3/L2=1且L4/L2=1/4。2.根据申请专利范围第1项之真空容器之盘阀装置,其中,该驱动机构具有一组装在该座体之顶壁上,且延伸入该容室内之固定座、一组装于此固定座顶侧之气压缸,以及一由气压缸穿过该固定座而延伸至该容室内之气压杆。3.根据申请专利范围第2项之真空容器之盘阀装置,其中,该固定座具有一固定于该座体之顶壁的平板部,以及一由平板部往该容室延伸,且用以包覆固定前述气压杆之包覆部。4.根据申请专利范围第2或3项之真空容器之盘阀装置,其中,该气压杆具有一远离该气压缸位置的结合部,此结合部乃具有一与该塞板顶面抵靠之半球形调整接面。图式简单说明:图1是一种习知真空阀装置之剖面示意图,说明一塞体位于封闭位置;图2是习知真空阀装置之另一剖面示意图,说明该塞体是位于半开启位置;图3是习知真空阀装置之另一剖面示意图,说明该塞体是位于完全开启位置;图4是本新型真空容器之盘阀装置的一较佳实施例之一立体分解图;图5是较佳实施例之一轴向剖视示意图,说明一塞体单元之一塞板位于一开启状态;图6是该较佳实施例之一尺寸比例示意图;及图7是较佳实施例之一轴向剖视示意图,说明该塞体位于封闭状态。
地址 新竹市科学工业园区工业东四路十五号一楼