发明名称 半导体装置及其制造方法及电子装置
摘要 于本发明之薄膜电晶体(1),半导体层(5)经由闸极绝缘层(4)而层叠于绝缘性基板(2)上之闸极(3)上,于其上形成源极(6)及汲极(7),并且形成覆盖其上之保护层(8),将半导体层(5)由气氛隔绝。半导体层(5)(活性层)采用例如添加有V族元素之ZnO之多晶状态之半导体所形成。ZnO系由于保护层(8),表面能态减少,解除空乏层往内部扩散,因此成为显示本来之电阻值之n型半导体,自由电子成为过剩状态。由于对于ZnO,添加之元素起作用作为受体杂质,因此过剩之自由电子减少。藉此,用以排除过剩之自由电子之闸极电压下降,因此临限电压在0V附近。可实际使用一种半导体装置,其系将氧化锌用于活性层,并且被赋予将活性层与气氛隔绝之保护层者。
申请公布号 TW200505016 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093117707 申请日期 2004.06.18
申请人 夏普股份有限公司;大野英男;川崎雅司 发明人 杉原利典;大野英男;川崎雅司
分类号 H01L29/00 主分类号 H01L29/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本