发明名称 可同时处理臭氧废气与排水之制程设备及方法
摘要 一种可同时处理臭氧废气与排水之制程设备,此设备是由制程装置、臭氧产生器、排水储槽、气/液混合装置、分解装置与吸附装置所构成。其中,臭氧产生器连接制程装置,用以供给臭氧至制程装置。排水储槽至少包括排水入口与排水出口。气/液混合装置包括气体入口、液体入口与出口,液体入口连接排水储槽之排水出口,气体入口连接臭氧产生器,此气/液混合装置用于使臭氧充分溶解于排水中。分解装置连接气/液混合装置,以分解排水中之有机碳。吸附装置连接分解装置,以吸附排水中之离子。
申请公布号 TW200510053 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW092124556 申请日期 2003.09.05
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 巫信东;彭锦相;张哲明;黄铭仁;梁文政;曹志杰
分类号 B01D53/00 主分类号 B01D53/00
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号