发明名称 | 可同时处理臭氧废气与排水之制程设备及方法 | ||
摘要 | 一种可同时处理臭氧废气与排水之制程设备,此设备是由制程装置、臭氧产生器、排水储槽、气/液混合装置、分解装置与吸附装置所构成。其中,臭氧产生器连接制程装置,用以供给臭氧至制程装置。排水储槽至少包括排水入口与排水出口。气/液混合装置包括气体入口、液体入口与出口,液体入口连接排水储槽之排水出口,气体入口连接臭氧产生器,此气/液混合装置用于使臭氧充分溶解于排水中。分解装置连接气/液混合装置,以分解排水中之有机碳。吸附装置连接分解装置,以吸附排水中之离子。 | ||
申请公布号 | TW200510053 | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
申请号 | TW092124556 | 申请日期 | 2003.09.05 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 巫信东;彭锦相;张哲明;黄铭仁;梁文政;曹志杰 |
分类号 | B01D53/00 | 主分类号 | B01D53/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |