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发明名称
光学组件,含有该光学组件之微影装置及元件制造方法
摘要
本发明描述了一种具有一顶层之光学组件,该顶层对于波长λ在5–20nm范围内之极端紫外线(EUV)辐射具有透射性,且其中该顶层之结构为以下结构:对于空间周期等于或小于λ/2而言,具有等于或大于λ/10的均方根(rms)粗糙值之结构。该结构可促进穿过该顶层至该光学组件之透射。
申请公布号
TW200527121
申请公布日期
2005.08.16
申请号
TW093133914
申请日期
2004.11.05
申请人
ASML公司
发明人
里微诺斯 派特 巴克
分类号
G03F1/00
主分类号
G03F1/00
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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