| 主权项 |
1.一种抗霉菌药物剂型,包含: (a)有效量之两性霉素B(Amphotericin B);及 (b)以聚乙二醇(PEG)修饰之豆甾醇; 其中前述之两性霉素B(Amphotericin B)系被以聚乙二 醇修饰之豆甾醇包覆形成高分子微胞(polymeric micelle)。 2.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述之高分子微胞大小系在70-300nm。 3.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述之以聚乙二醇修饰之豆甾醇系藉由两性霉 素B与豆甾醇之间有良好亲合力的特性,藉由亲和 吸引自组装(self-assembly)方式包覆两性霉素B而形成 高分子微胞。 4.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述之以聚乙二醇修饰之豆甾醇系用以作为两 性霉素B药物之载体。 5.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中两性霉素B与前述以聚乙二醇修饰之豆甾醇之亲 和性系小于麦角固醇且大于胆固醇。 6.如申请专利范围第5项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述用于修饰豆甾醇之聚乙二醇分子量系包含 分子量600-5000之聚乙二醇。 7.如申请专利范围第6项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述用于修饰豆甾醇之聚乙二醇分子量系为600 。 8.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述之抗霉菌药物剂型系可经进一步加工制作 成针剂、药片、药膏等形式应用。 9.如申请专利范围第1项所述之抗霉菌药物剂型,其 中前述之高分子微胞系可分散于适当溶剂中保存 。 10.如申请专利范围第9项所述之抗霉菌药物剂型, 其中前述之适当溶剂包含混合比例为1/1-1/5之甲醇 /丙酮、甲醇/乙氰或乙醇/丙酮组成之共溶剂(co- solvent)。 11.如申请专利范围第10项所述之抗霉菌药物剂型, 其中前述之共溶剂混合比例系为1/2。 12.一种以聚乙二醇修饰之豆甾醇化合物作为两性 霉素B药物之载体,其系具有下列化学式(I)之结构: HO-CH2-CH2-(OCH2CH2)n-O-X-O-豆甾醇 (I) 其中X系为两端可与-OH反应之化合物与聚乙二醇及 豆甾醇之-OH反应后的残余基团,n系为整数10-115。 13.如申请专利范围第12项所述之载体,其中前述两 性霉素B对前述之以聚乙二醇修饰之豆甾醇化合物 之亲和性系小于麦角固醇且大于胆固醇。 14.如申请专利范围第12项所述之载体,其中前述以 聚乙二醇修饰之豆甾醇化合物,系为式(II)之化合 物,其中n系为整数10-115: 15.如申请专利范围第12项所述之载体,其中前述结 构式(I)之n系为整数12-45。 16.一种抗霉菌剂型的制造方法,包含: (a)选择一经聚乙二醇修饰后对两性霉素B之亲和性 介在麦角固醇与胆固醇之间的豆甾醇; (b)以聚乙二醇修饰前述之豆甾醇,使聚乙二醇直接 或间接以共价键接在豆甾醇之-OH端上,形成一聚乙 二醇-豆甾醇化合物; (c)取前述步骤(b)制造之聚乙二醇-豆甾醇化合物与 适量之两性霉素B混合,前述之聚乙二醇-豆甾醇化 合物藉由自组装方式包覆两性霉素B形成高分子微 胞。 17.如申请专利范围第16项所述之抗霉菌剂型的制 造方法,其中前述步骤(c)形成之高分子微胞系分散 于以1/1-1/5比例混合之甲醇/丙酮、甲醇/乙氰或乙 醇/丙酮共溶剂(co-solvent)中保存。 18.如申请专利范围第17项所述之抗霉菌剂型的制 造方法前述之共溶剂混合比例系为1/2。 19.一种降低两性霉素B于施药过程中毒性之方法, 系施予有效量之前述申请专利范围第1项之抗霉菌 药物剂型于目标物,藉由两性霉素B对前述抗霉菌 药物剂型中的聚乙二醇修饰之豆甾醇亲和性小于 麦角固醇且大于胆固醇,使前述抗霉菌药物剂型中 的两性霉素B进入目标物后与霉菌细胞膜上的麦角 固醇结合而不与目标物细胞膜上的胆固醇结合,藉 以降低两性霉素B之毒性并有效释放药物。 图式简单说明: 第一图系为A415nm/A350nm与sterol/AmB莫耳比曲线图。 第二图系为A415nm/A350nm与sterol-PEG600/AmB莫耳比曲线 图。 |
